FOCUS RING AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE
기판 처리 장치는, 기판을 지지하는 척; 상기 척의 둘레에 마련되는 포커스링을 포함하되, 상기 포커스링은, 내외측이 분리되지 않고 일체화되는 하나의 상부링; 및 상기 상부링의 하부에 마련되는 하부링을 포함하며, 상기 상부링은 상부로부터 하부로 동일한 내경을 가지거나 테이퍼 형상을 가지고, 상기 하부링은 상부로부터 하부로 동일한 내경을 가지고 상부가 평면을 이룬다....
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | 기판 처리 장치는, 기판을 지지하는 척; 상기 척의 둘레에 마련되는 포커스링을 포함하되, 상기 포커스링은, 내외측이 분리되지 않고 일체화되는 하나의 상부링; 및 상기 상부링의 하부에 마련되는 하부링을 포함하며, 상기 상부링은 상부로부터 하부로 동일한 내경을 가지거나 테이퍼 형상을 가지고, 상기 하부링은 상부로부터 하부로 동일한 내경을 가지고 상부가 평면을 이룬다. |
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