METHOD AND APPARATUS FOR VISUALIZING DEFECTIVE POSITIONS
The present disclosure relates to a method and apparatus for visualizing a defective location. According to the present disclosure, a computer-implemented method for indicating a defective location in a semiconductor device is provided. The method comprises the steps of: providing a graphical user i...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | The present disclosure relates to a method and apparatus for visualizing a defective location. According to the present disclosure, a computer-implemented method for indicating a defective location in a semiconductor device is provided. The method comprises the steps of: providing a graphical user interface including GUI elements capable of adjusting parameters related to image processing for a background image and a defective image; performing the image processing for the background image based on parameters adjusted by the user and the bad image; generating a composite image by synthesizing the image-processed background image and the image-processed defective image; and displaying the image-processed defective image and the composite image on the graphical user interface.
본 개시는 불량 위치를 시각화하는 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 개시에 따르면, 반도체 소자내 불량 위치를 표시하기 위한 컴퓨터 구현 방법이 제공된다. 상기 방법은 배경 이미지 및 불량 이미지에 대한 영상처리와 관련된 파라미터들을 조정할 수 있는 GUI 요소들을 포함하는 그래픽 사용자 인터페이스를 제공하는 단계; 사용자에 의해 조정된 파라미터들에 기초하여 상기 배경 이미지 및 상기 불량 이미지에 대해 영상처리를 수행하는 단계; 상기 영상처리된 배경 이미지와 상기 영상처리된 불량 이미지를 합성하여 합성 이미지를 생성하는 단계; 및 상기 영상처리된 불량 이미지 및 상기 합성 이미지를 상기 그래픽 사용자 인터페이스상에 디스플레이하는 단계를 포함한다. |
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