Debris shielding membrane and manufacturing method of the same

본 발명은 극자외선 광을 생성하는 광원에 사용되는 잔해 차폐 막 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 a) 기판의 일면에 잔해 차폐 막 층을 형성하는 단계와, b) 상기 잔해 차폐 막 층 위에 메시 형태의 금속 패턴 층을 형성하는 단계와, c) 상기 잔해 차폐 막 층이 노출될 때까지 상기 기판의 반대 면을 식각하는 단계를 포함하는 잔해 차폐 막의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따른 잔해 차폐 막은 높은 투과도를 유지하면서도 강도를 확보할 수 있으므로, 수명이 늘어난다. 따라서 잔해 차폐 막의 교체에 의한 노광 장비의 이용 불...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	YUN WOO HYUN, KIM KYOUNG SOO, YU LAN, PARK JIN SU, KANG HONG GU, KIM CHEONG, LEE SO YOON, SEO KYOUNG WON, CHOI JAE HYUCK, CHO SANG JIN, MOON SEONG YONG, JOO SUK HO
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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