EL RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION CURED FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREOF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE
(과제) 방사선 감도가 높고, 프리베이킹 마진 및 내(耐)건조성이 우수한 감방사선성 조성물을 제공하는 것. (해결 수단) (A-1) 식 (1)로 나타나는 기 또는 산 해리성기를 갖는 구조 단위 (I)을 포함하는 중합체 및 실록산 폴리머로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 중합체와, (B-1) 광 산 발생제와, (D) 용제를 함유하고, (D) 용제가, 비점이 180℃ 이상으로서 한센 용해도 파라미터의 수소 결합항 δH가 3.0 이상 13.0 이하인 용제 (D1)을 포함하는 감방사선성 조성물로 한다. 식 (1) 중, R1,...
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| Hauptverfasser: | , , , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; kor |
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| container_end_page | |
|---|---|
| container_issue | |
| container_start_page | |
| container_title | |
| container_volume | |
| creator | ASAOKA TAKAHIDE NARUKO AKITO HASHIMOTO RITSU MIMURA TOKIO |
| description | (과제) 방사선 감도가 높고, 프리베이킹 마진 및 내(耐)건조성이 우수한 감방사선성 조성물을 제공하는 것. (해결 수단) (A-1) 식 (1)로 나타나는 기 또는 산 해리성기를 갖는 구조 단위 (I)을 포함하는 중합체 및 실록산 폴리머로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 중합체와, (B-1) 광 산 발생제와, (D) 용제를 함유하고, (D) 용제가, 비점이 180℃ 이상으로서 한센 용해도 파라미터의 수소 결합항 δH가 3.0 이상 13.0 이하인 용제 (D1)을 포함하는 감방사선성 조성물로 한다. 식 (1) 중, R1, R2 및 R3은, 수소 원자, 할로겐 원자, 하이드록시기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 탄소수 1∼10의 알킬기 또는 페닐기이다. 단, R1, R2 및 R3 중 적어도 1개는 탄소수 1∼6의 알콕시기이다. JPEGpat00021.jpg2241 |
| format | Patent |
| fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_KR20230166944A</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>KR20230166944A</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_KR20230166944A3</originalsourceid><addsrcrecordid>eNqNi7EKwjAURbs4iPoPD5wLtS2C4yN5bR-mSU3SQqdSJE6ihfoVfrUoTk5O98A5dxk9SYFFyejZ6NiRduy5IxCmbsybjQbRWpJQsKoBtYQadVug8K1lXUJNvjISfEWWTAGKTy1LELZ3HhVIdo3CHiR1LOhzN7ZEzQLo166jxWW8zmHz3VW0LciLKg7TfQjzNJ7DLTyGo02TNEt2-_0hzzH7r3oB5AM_yw</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>EL RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION CURED FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREOF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE</title><source>esp@cenet</source><creator>ASAOKA TAKAHIDE ; NARUKO AKITO ; HASHIMOTO RITSU ; MIMURA TOKIO</creator><creatorcontrib>ASAOKA TAKAHIDE ; NARUKO AKITO ; HASHIMOTO RITSU ; MIMURA TOKIO</creatorcontrib><description>(과제) 방사선 감도가 높고, 프리베이킹 마진 및 내(耐)건조성이 우수한 감방사선성 조성물을 제공하는 것. (해결 수단) (A-1) 식 (1)로 나타나는 기 또는 산 해리성기를 갖는 구조 단위 (I)을 포함하는 중합체 및 실록산 폴리머로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 중합체와, (B-1) 광 산 발생제와, (D) 용제를 함유하고, (D) 용제가, 비점이 180℃ 이상으로서 한센 용해도 파라미터의 수소 결합항 δH가 3.0 이상 13.0 이하인 용제 (D1)을 포함하는 감방사선성 조성물로 한다. 식 (1) 중, R1, R2 및 R3은, 수소 원자, 할로겐 원자, 하이드록시기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 탄소수 1∼10의 알킬기 또는 페닐기이다. 단, R1, R2 및 R3 중 적어도 1개는 탄소수 1∼6의 알콕시기이다. JPEGpat00021.jpg2241</description><language>eng ; kor</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH ISMODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THEDEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY,COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g.SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING ; ELECTRICITY ; ELECTROGRAPHY ; FREQUENCY-CHANGING ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; NON-LINEAR OPTICS ; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS ; OPTICAL LOGIC ELEMENTS ; OPTICS ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF</subject><creationdate>2023</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20231207&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20230166944A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,778,883,25547,76298</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20231207&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20230166944A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>ASAOKA TAKAHIDE</creatorcontrib><creatorcontrib>NARUKO AKITO</creatorcontrib><creatorcontrib>HASHIMOTO RITSU</creatorcontrib><creatorcontrib>MIMURA TOKIO</creatorcontrib><title>EL RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION CURED FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREOF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE</title><description>(과제) 방사선 감도가 높고, 프리베이킹 마진 및 내(耐)건조성이 우수한 감방사선성 조성물을 제공하는 것. (해결 수단) (A-1) 식 (1)로 나타나는 기 또는 산 해리성기를 갖는 구조 단위 (I)을 포함하는 중합체 및 실록산 폴리머로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 중합체와, (B-1) 광 산 발생제와, (D) 용제를 함유하고, (D) 용제가, 비점이 180℃ 이상으로서 한센 용해도 파라미터의 수소 결합항 δH가 3.0 이상 13.0 이하인 용제 (D1)을 포함하는 감방사선성 조성물로 한다. 식 (1) 중, R1, R2 및 R3은, 수소 원자, 할로겐 원자, 하이드록시기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 탄소수 1∼10의 알킬기 또는 페닐기이다. 단, R1, R2 및 R3 중 적어도 1개는 탄소수 1∼6의 알콕시기이다. JPEGpat00021.jpg2241</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH ISMODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THEDEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY,COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g.SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>FREQUENCY-CHANGING</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>NON-LINEAR OPTICS</subject><subject>OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS</subject><subject>OPTICAL LOGIC ELEMENTS</subject><subject>OPTICS</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2023</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNi7EKwjAURbs4iPoPD5wLtS2C4yN5bR-mSU3SQqdSJE6ihfoVfrUoTk5O98A5dxk9SYFFyejZ6NiRduy5IxCmbsybjQbRWpJQsKoBtYQadVug8K1lXUJNvjISfEWWTAGKTy1LELZ3HhVIdo3CHiR1LOhzN7ZEzQLo166jxWW8zmHz3VW0LciLKg7TfQjzNJ7DLTyGo02TNEt2-_0hzzH7r3oB5AM_yw</recordid><startdate>20231207</startdate><enddate>20231207</enddate><creator>ASAOKA TAKAHIDE</creator><creator>NARUKO AKITO</creator><creator>HASHIMOTO RITSU</creator><creator>MIMURA TOKIO</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20231207</creationdate><title>EL RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION CURED FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREOF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE</title><author>ASAOKA TAKAHIDE ; NARUKO AKITO ; HASHIMOTO RITSU ; MIMURA TOKIO</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20230166944A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2023</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH ISMODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THEDEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY,COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g.SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>FREQUENCY-CHANGING</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>NON-LINEAR OPTICS</topic><topic>OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS</topic><topic>OPTICAL LOGIC ELEMENTS</topic><topic>OPTICS</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>ASAOKA TAKAHIDE</creatorcontrib><creatorcontrib>NARUKO AKITO</creatorcontrib><creatorcontrib>HASHIMOTO RITSU</creatorcontrib><creatorcontrib>MIMURA TOKIO</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>ASAOKA TAKAHIDE</au><au>NARUKO AKITO</au><au>HASHIMOTO RITSU</au><au>MIMURA TOKIO</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>EL RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION CURED FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREOF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE</title><date>2023-12-07</date><risdate>2023</risdate><abstract>(과제) 방사선 감도가 높고, 프리베이킹 마진 및 내(耐)건조성이 우수한 감방사선성 조성물을 제공하는 것. (해결 수단) (A-1) 식 (1)로 나타나는 기 또는 산 해리성기를 갖는 구조 단위 (I)을 포함하는 중합체 및 실록산 폴리머로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 중합체와, (B-1) 광 산 발생제와, (D) 용제를 함유하고, (D) 용제가, 비점이 180℃ 이상으로서 한센 용해도 파라미터의 수소 결합항 δH가 3.0 이상 13.0 이하인 용제 (D1)을 포함하는 감방사선성 조성물로 한다. 식 (1) 중, R1, R2 및 R3은, 수소 원자, 할로겐 원자, 하이드록시기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 탄소수 1∼10의 알킬기 또는 페닐기이다. 단, R1, R2 및 R3 중 적어도 1개는 탄소수 1∼6의 알콕시기이다. JPEGpat00021.jpg2241</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
| fulltext | fulltext_linktorsrc |
| identifier | |
| ispartof | |
| issn | |
| language | eng ; kor |
| recordid | cdi_epo_espacenet_KR20230166944A |
| source | esp@cenet |
| subjects | APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH ISMODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THEDEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY,COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g.SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING ELECTRICITY ELECTROGRAPHY FREQUENCY-CHANGING HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR NON-LINEAR OPTICS OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS OPTICAL LOGIC ELEMENTS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF |
| title | EL RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION CURED FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREOF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-16T12%3A45%3A22IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=ASAOKA%20TAKAHIDE&rft.date=2023-12-07&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EKR20230166944A%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |