반도체 툴용 가스 커패시터

시스템이 제공되고, 상기 시스템은 가스 공급부; 제1 및 제2 서브 회로를 포함하는 유체 회로로서, 상기 제1 서브 회로는 제1 일방향 밸브를 포함하고, 상기 제2 서브 회로는 제2 일방향 밸브 및 상기 제2 일방향 밸브의 하류에 배치되는 가스 커패시터를 포함하는, 상기 유체 회로; 및 상기 유체 회로를 통하여 상기 가스 공급부와 유체 연통하는 공압 작동식 반도체 툴을 포함한다. A system is provided which includes a gas supply; a fluidic circuit which includes fir...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	WALTON JR. THOMAS E, RANDALL TOM, DAILEY MICHAEL
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CAPACITORS CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES ORLIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	시스템이 제공되고, 상기 시스템은 가스 공급부; 제1 및 제2 서브 회로를 포함하는 유체 회로로서, 상기 제1 서브 회로는 제1 일방향 밸브를 포함하고, 상기 제2 서브 회로는 제2 일방향 밸브 및 상기 제2 일방향 밸브의 하류에 배치되는 가스 커패시터를 포함하는, 상기 유체 회로; 및 상기 유체 회로를 통하여 상기 가스 공급부와 유체 연통하는 공압 작동식 반도체 툴을 포함한다. A system is provided which includes a gas supply; a fluidic circuit which includes first and second sub-circuits, wherein said first sub-circuit includes a first one-way valve, and wherein said second sub-circuit includes a second one-way valve and a gas capacitor disposed downstream of said second one-way valve; and a pneumatically operated semiconductor tool in fluidic communication with said gas supply by way of said fluidic circuit.