전하 소산 레티클 테이블 세정 레티클

리소그래피 장치의 레티클 스테이지에 대한 레티클 스테이지 세정 장치는 전면 및 전면에 대향하는 후면을 갖는 기판, 및 기판의 전면 상에 배치되는 전도성 층을 포함한다. 전도성 층은 레티클 스테이지 상의 전하를 소산시키기 위해 그리고 전도성 층과 레티클 스테이지 사이에서 생성되는 정전기장을 통해 레티클 스테이지 상의 입자를 제거하기 위해 레티클 스테이지와 접촉하도록 구성된다. 기판은 복수의 홈을 포함할 수 있고 전도성 층은 기판의 전면 및 복수의 홈의 저부 표면 상에 배치될 수 있다. 레티클 스테이지 세정 장치는 제2 정전기장을 통해...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	RIZO DIAGO PEDRO JULIAN, VOEVODKIN GEORGE GRIGORIEVICH, EBERT EARL WILLIAM
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!