Mixture liquid supply apparatus substrate processing apparatus having same and mixture liquid supply method

Provided is a mixed liquid supply apparatus capable of supplying mixed liquid of different concentrations to different chambers installed in a substrate processing facility. According to the present invention, the mixed liquid supply apparatus comprises: an ozonated water supply line supplying ozonated water; a first pure water supply line supplying first pure water; a second pure water supply line supplying second pure water; a first mixing line mixing the ozonated water supplied from the ozonated water supply line and the first pure water supplied from the first pure water supply line in an in-line manner to generate a first mixed liquid having a first target ozone concentration; a second mixing line mixing the ozonated water supplied from the ozonated water supply line and the second pure water supplied from the second pure water supply line in an in-line manner to generate a second mixed liquid having a second target ozone concentration different from the first target ozone concentration; a first concentration meter installed in the first mixing line to measure a first ozone concentration of the first mixed liquid; and a controller adjusting the supply amount of the first pure water supplied to the first mixing line on the basis of the first ozone concentration. 기판 처리 설비 내에 설치된 서로 다른 챔버에 서로 다른 농도의 혼합액을 공급할 수 있는 혼합액 공급 장치가 제공된다. 상기 혼합액 공급 장치는 오존수를 공급하는 오존수 공급 라인; 제1 순수를 공급하는 제1 순수 공급 라인; 제2 순수를 공급하는 제2 순수 공급 라인; 상기 오존수 공급 라인으로부터 공급받은 오존수와, 상기 제1 순수 공급 라인으로부터 공급받은 제1 순수를 인라인 방식으로 혼합하여, 제1 타겟 오존농도를 갖는 제1 혼합액을 생성하는 제1 혼합 라인; 상기 오존수 공급 라인으로부터 공급받은 오존수와, 상기 제2 순수 공급 라인으로부터 공급받은 제2 순수를 인라인 방식으로 혼합하여, 상기 제1 타겟 오존농도와 다른 제2 타겟 오존농도를 갖는 제2 혼합액을 생성하는 제2 혼합 라인; 상기 제1 혼합 라인에 설치되고, 상기 제1 혼합액의 제1 오존농도를 측정하는 제1 농도계; 및 상기 제1 오존농도를 기초로, 상기 제1 혼합 라인에 공급하는 제1 순수의 공급량을 조정하는 제어기를 포함한다.