기판들을 회전시키기 위한 장치

본 개시내용의 실시예들은 일반적으로 기판 프로세싱을 위한 장치에 관한 것으로, 더 구체적으로, 기판들을 회전시키기 위한 장치 및 그의 사용들에 관한 것이다. 실시예에서, 기판을 회전시키기 위한 장치가 제공된다. 장치는 내부에 매립된 복수의 자석들을 포함하는 부상 가능 회전자, 부상 가능 회전자를 부상시키도록 포지셔닝된 복수의 가스 베어링들, 및 부상 가능 회전자에 자기 결합된 고정자를 포함하고, 고정자는 회전 자기장을 생성하기 위한 것이다. 기판들을 회전시키기 위한 장치로 기판을 프로세싱하기 위한 장치뿐만 아니라 사용 방법들이 또한...

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Hauptverfasser: RAMACHANDRAN VINODH, AAMIR MOHAMMAD, GLOVER DANIEL C, PRASAD CHAITANYA A, KAMESH GIRIDHAR
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 개시내용의 실시예들은 일반적으로 기판 프로세싱을 위한 장치에 관한 것으로, 더 구체적으로, 기판들을 회전시키기 위한 장치 및 그의 사용들에 관한 것이다. 실시예에서, 기판을 회전시키기 위한 장치가 제공된다. 장치는 내부에 매립된 복수의 자석들을 포함하는 부상 가능 회전자, 부상 가능 회전자를 부상시키도록 포지셔닝된 복수의 가스 베어링들, 및 부상 가능 회전자에 자기 결합된 고정자를 포함하고, 고정자는 회전 자기장을 생성하기 위한 것이다. 기판들을 회전시키기 위한 장치로 기판을 프로세싱하기 위한 장치뿐만 아니라 사용 방법들이 또한 설명된다. Embodiments of the present disclosure generally relate to apparatus for substrate processing, and more specifically to apparatus for rotating substrates and to uses thereof. In an embodiment, an apparatus for rotating a substrate is provided. The apparatus includes a levitatable rotor comprising a plurality of magnets embedded therein, a plurality of gas bearings positioned to levitate the levitatable rotor, and a stator magnetically coupled to the levitatable rotor, the stator for producing a rotating magnetic field. Apparatus for processing a substrate with the apparatus for rotating substrates as well as methods of use are also described.