APPARATUS OF PRINTING MICRO AND NANO STRUCTURE
The present invention relates to an apparatus for printing micro and nano structures by direct laser drawing using two-photon photopolymerization phenomenon, comprising: a first light source which outputs femtosecond laser light; a focusing optical system which processes the femtosecond laser light;...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | The present invention relates to an apparatus for printing micro and nano structures by direct laser drawing using two-photon photopolymerization phenomenon, comprising: a first light source which outputs femtosecond laser light; a focusing optical system which processes the femtosecond laser light; a two-photon photopolymerization resin which causes two-photon photopolymerization by light passing through the focusing optical system; a substrate which supports the two-photon photopolymerization resin; a stage which moves the substrate in the X-axis and Y-axis or Z-axis; and a control unit which controls the Z-axis movement of the stage.
본 발명은 이광자 광중합 현상을 이용하여 레이저 직접 묘화에 의해 마이크로 및 나노 구조물을 프린팅하는 장치에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 마이크로 및 나노 구조물 프린팅 장치는 펨토초 레이저 광을 출력하는 제1 광원, 펨토초 레이저 광을 가공하는 집속 광학계, 집속 광학계를 통과한 광에 의해 이광자 광중합을 일으키는 이광자 광중합 레진, 이광자 광중합 레진을 지지하는 기판, 기판을 X축, Y축, 또는 Z축으로 이동시키는 스테이지, 스테이지의 Z축 이동을 제어하는 제어 유닛을 포함할 수 있다. |
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