에어로졸 형성 기재

에어로졸 형성 기재(1020)는 에어로졸 발생 시스템(2000)에 사용하기 위한 것이다. 에어로졸 형성 기재(1020)는 하나 이상의 에어로졸 형성제; 하이드록시프로필메틸 셀룰로오스; 및 하나 이상의 셀룰로오스 기반 강화제를 포함한다. 에어로졸 형성 기재(1020)는 30 중량% 초과의 에어로졸 형성제 함량을 갖는다. 하나 이상의 셀룰로오스 기반 강화제는 셀룰로오스 분말을 포함한다. 에어로졸 형성 기재(1020)는 약 0.5 중량% 내지 약 50 중량%의 셀룰로오스 분말 함량을 갖는다. An aerosol-forming substr...

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Hauptverfasser: VOLLMER JEAN YVES, GAMBS CELINE
Format: Patent
Sprache:kor
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GAMBS CELINE
description 에어로졸 형성 기재(1020)는 에어로졸 발생 시스템(2000)에 사용하기 위한 것이다. 에어로졸 형성 기재(1020)는 하나 이상의 에어로졸 형성제; 하이드록시프로필메틸 셀룰로오스; 및 하나 이상의 셀룰로오스 기반 강화제를 포함한다. 에어로졸 형성 기재(1020)는 30 중량% 초과의 에어로졸 형성제 함량을 갖는다. 하나 이상의 셀룰로오스 기반 강화제는 셀룰로오스 분말을 포함한다. 에어로졸 형성 기재(1020)는 약 0.5 중량% 내지 약 50 중량%의 셀룰로오스 분말 함량을 갖는다. An aerosol-forming substrate (1020) for use in an aerosol-generating system (2000). The aerosol-forming substrate (1020) comprises: one or more aerosol formers; hydroxypropylmethyl cellulose; one or more cellulose based strengthening agents; and carboxymethyl cellulose. The aerosol-forming substrate (1020) has an aerosol former content of greater than 30 percent by weight.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_KR20230080444A</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>KR20230080444A</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_KR20230080444A3</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZJB6M33Cm2lbXi-c82bhDoW3M6a-admo8GrHhjfz1vAwsKYl5hSn8kJpbgZlN9cQZw_d1IL8-NTigsTk1LzUknjvICMDI2MDAwsDExMTR2PiVAEABjorjA</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>에어로졸 형성 기재</title><source>esp@cenet</source><creator>VOLLMER JEAN YVES ; GAMBS CELINE</creator><creatorcontrib>VOLLMER JEAN YVES ; GAMBS CELINE</creatorcontrib><description>에어로졸 형성 기재(1020)는 에어로졸 발생 시스템(2000)에 사용하기 위한 것이다. 에어로졸 형성 기재(1020)는 하나 이상의 에어로졸 형성제; 하이드록시프로필메틸 셀룰로오스; 및 하나 이상의 셀룰로오스 기반 강화제를 포함한다. 에어로졸 형성 기재(1020)는 30 중량% 초과의 에어로졸 형성제 함량을 갖는다. 하나 이상의 셀룰로오스 기반 강화제는 셀룰로오스 분말을 포함한다. 에어로졸 형성 기재(1020)는 약 0.5 중량% 내지 약 50 중량%의 셀룰로오스 분말 함량을 갖는다. An aerosol-forming substrate (1020) for use in an aerosol-generating system (2000). The aerosol-forming substrate (1020) comprises: one or more aerosol formers; hydroxypropylmethyl cellulose; one or more cellulose based strengthening agents; and carboxymethyl cellulose. The aerosol-forming substrate (1020) has an aerosol former content of greater than 30 percent by weight.</description><language>kor</language><subject>CIGARETTES ; CIGARS ; HUMAN NECESSITIES ; MANUFACTURE OF TOBACCO SMOKE FILTERS OR MOUTHPIECES ; MANUFACTURE OR PREPARATION OF TOBACCO FOR SMOKING ORCHEWING ; MOUTHPIECES FOR CIGARS OR CIGARETTES ; SMOKERS' REQUISITES ; SNUFF ; TOBACCO ; TOBACCO SMOKE FILTERS</subject><creationdate>2023</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20230607&amp;DB=EPODOC&amp;CC=KR&amp;NR=20230080444A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20230607&amp;DB=EPODOC&amp;CC=KR&amp;NR=20230080444A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>VOLLMER JEAN YVES</creatorcontrib><creatorcontrib>GAMBS CELINE</creatorcontrib><title>에어로졸 형성 기재</title><description>에어로졸 형성 기재(1020)는 에어로졸 발생 시스템(2000)에 사용하기 위한 것이다. 에어로졸 형성 기재(1020)는 하나 이상의 에어로졸 형성제; 하이드록시프로필메틸 셀룰로오스; 및 하나 이상의 셀룰로오스 기반 강화제를 포함한다. 에어로졸 형성 기재(1020)는 30 중량% 초과의 에어로졸 형성제 함량을 갖는다. 하나 이상의 셀룰로오스 기반 강화제는 셀룰로오스 분말을 포함한다. 에어로졸 형성 기재(1020)는 약 0.5 중량% 내지 약 50 중량%의 셀룰로오스 분말 함량을 갖는다. An aerosol-forming substrate (1020) for use in an aerosol-generating system (2000). The aerosol-forming substrate (1020) comprises: one or more aerosol formers; hydroxypropylmethyl cellulose; one or more cellulose based strengthening agents; and carboxymethyl cellulose. The aerosol-forming substrate (1020) has an aerosol former content of greater than 30 percent by weight.</description><subject>CIGARETTES</subject><subject>CIGARS</subject><subject>HUMAN NECESSITIES</subject><subject>MANUFACTURE OF TOBACCO SMOKE FILTERS OR MOUTHPIECES</subject><subject>MANUFACTURE OR PREPARATION OF TOBACCO FOR SMOKING ORCHEWING</subject><subject>MOUTHPIECES FOR CIGARS OR CIGARETTES</subject><subject>SMOKERS' REQUISITES</subject><subject>SNUFF</subject><subject>TOBACCO</subject><subject>TOBACCO SMOKE FILTERS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2023</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZJB6M33Cm2lbXi-c82bhDoW3M6a-admo8GrHhjfz1vAwsKYl5hSn8kJpbgZlN9cQZw_d1IL8-NTigsTk1LzUknjvICMDI2MDAwsDExMTR2PiVAEABjorjA</recordid><startdate>20230607</startdate><enddate>20230607</enddate><creator>VOLLMER JEAN YVES</creator><creator>GAMBS CELINE</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20230607</creationdate><title>에어로졸 형성 기재</title><author>VOLLMER JEAN YVES ; GAMBS CELINE</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20230080444A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>kor</language><creationdate>2023</creationdate><topic>CIGARETTES</topic><topic>CIGARS</topic><topic>HUMAN NECESSITIES</topic><topic>MANUFACTURE OF TOBACCO SMOKE FILTERS OR MOUTHPIECES</topic><topic>MANUFACTURE OR PREPARATION OF TOBACCO FOR SMOKING ORCHEWING</topic><topic>MOUTHPIECES FOR CIGARS OR CIGARETTES</topic><topic>SMOKERS' REQUISITES</topic><topic>SNUFF</topic><topic>TOBACCO</topic><topic>TOBACCO SMOKE FILTERS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>VOLLMER JEAN YVES</creatorcontrib><creatorcontrib>GAMBS CELINE</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>VOLLMER JEAN YVES</au><au>GAMBS CELINE</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>에어로졸 형성 기재</title><date>2023-06-07</date><risdate>2023</risdate><abstract>에어로졸 형성 기재(1020)는 에어로졸 발생 시스템(2000)에 사용하기 위한 것이다. 에어로졸 형성 기재(1020)는 하나 이상의 에어로졸 형성제; 하이드록시프로필메틸 셀룰로오스; 및 하나 이상의 셀룰로오스 기반 강화제를 포함한다. 에어로졸 형성 기재(1020)는 30 중량% 초과의 에어로졸 형성제 함량을 갖는다. 하나 이상의 셀룰로오스 기반 강화제는 셀룰로오스 분말을 포함한다. 에어로졸 형성 기재(1020)는 약 0.5 중량% 내지 약 50 중량%의 셀룰로오스 분말 함량을 갖는다. An aerosol-forming substrate (1020) for use in an aerosol-generating system (2000). The aerosol-forming substrate (1020) comprises: one or more aerosol formers; hydroxypropylmethyl cellulose; one or more cellulose based strengthening agents; and carboxymethyl cellulose. The aerosol-forming substrate (1020) has an aerosol former content of greater than 30 percent by weight.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language kor
recordid cdi_epo_espacenet_KR20230080444A
source esp@cenet
subjects CIGARETTES
CIGARS
HUMAN NECESSITIES
MANUFACTURE OF TOBACCO SMOKE FILTERS OR MOUTHPIECES
MANUFACTURE OR PREPARATION OF TOBACCO FOR SMOKING ORCHEWING
MOUTHPIECES FOR CIGARS OR CIGARETTES
SMOKERS' REQUISITES
SNUFF
TOBACCO
TOBACCO SMOKE FILTERS
title 에어로졸 형성 기재
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2024-12-30T22%3A42%3A34IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=VOLLMER%20JEAN%20YVES&rft.date=2023-06-07&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EKR20230080444A%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true