감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 레지스트막, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법

본 발명의 과제는, 해상성이 우수한 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물을 제공하는 것이다. 또, 본 발명의 다른 과제는, 상기 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물에 관한 것이며, 레지스트막, 패턴 형성 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물은, 산의 작용에 의하여 분해되어 극성이 증대되는 수지와, 활성광선 또는 방사선의 조사에 의하여 산을 발생하는 화합물을 포함하고, 상기 수지가, 산의 작용에 의하여 분해되어 극성이 증대되는 기를 2개 이상 갖는 반복 단위 X1 및 페놀성 수산기를 갖는 반복 단위 X2를 포함하는 수지를 포함한다. An object of the present invention is to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an excellent resolution. In addition, another object of the present invention is to provide a resist film, a pattern forming method, and a method for manufacturing an electronic device, each relating to the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition.The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition of the embodiment of the present invention includes:a resin of which polarity increases through decomposition by the action of an acid; anda compound that generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation,in which the resin includes a resin including a repeating unit X1 having two or more groups of which polarity increases through decomposition by the action of an acid and a repeating unit X2 having a phenolic hydroxyl group.