OLED A DEPOSITION MASK OF METAL PLATE MATERIAL FOR OLED PIXEL DEPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING OF THE SAME
The present invention relates to a mask for deposition of metal materials for OLED pixel deposition and a method for manufacturing the same. The mask for deposition of metal materials, according to the present invention, comprises a metal plate including one side and another side opposite to the one...
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| creator | KIM HAE SIK PAIK JEE HEUM |
| description | The present invention relates to a mask for deposition of metal materials for OLED pixel deposition and a method for manufacturing the same. The mask for deposition of metal materials, according to the present invention, comprises a metal plate including one side and another side opposite to the one side, wherein the metal plate includes a deposition region and a non-deposition region. According to the present invention, deposition defects can be minimized.
실시예에 따른 OLED 화소 증착을 위한 금속재의 증착용 마스크에 있어서, 상기 증착용 마스크는 증착 패턴을 형성하기 위한 증착 영역 및 증착 영역 이외의 비증착 영역을 포함하고, 상기 증착 영역은 길이 방향으로 이격된 복수개의 유효부 및 상기 유효부 이외의 비유효부를 포함하고, 상기 유효부는, 일면 상에 형성된 다수의 소면공; 상기 일면과 반대되는 타면상에 형성된 다수의 대면공; 상기 소면공과 상기 대면공을 연통하는 관통홀; 및 상기 다수의 관통홀 사이의 아일랜드부;를 포함하고, 상기 관통홀의 직경은 33um이하이고, 상기 관통홀 간의 간격이 48um 이하인 500PPI 이상의 해상도를 가지며, 상기 일면에 대한 소면공의 경사각은 70도 내지 89도이고, 상기 일면에 대한 소면공의 경사 곡률반경은 3㎛ 내지 86㎛이다. 실시예에 따른 OLED 화소 증착을 위한 금속재의 증착용 마스크는, 20㎛ 내지 30㎛ 두께의 베이스 금속판을 준비하는 제 1 단계; 상기 베이스 금속판의 일면 상에 패턴화된 포토레지스트층을 배치하고, 상기 토레지스트층의 오픈부를 하프 에칭하여 상기 베이스 금속판의 일면 상에 홈을 형성하고, 상기 베이스 금속판의 상기 일면과 반대되는 타면 상에 패턴화된 포토레지스트층을 배치하고, 상기 포토레지스트층의 오픈부를 에칭하여 상기 베이스 금속판의 일면 상의 홈과 연결되는 관통홀을 형성하는 제 2 단계; 및 상기 포토레지스트층을 제거하여, 상기 일면 상에 형성된 대면공, 상기 일면과 반대되는 타면 상에 형성된 소면공, 상기 대면공 및 상기 소면공의 경계가 연결되는 연통부에 의해 형성되는 관통홀을 포함하는 증착용 마스크를 형성하는 제 3 단계;를 포함하여 제조될 수 있다. |
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실시예에 따른 OLED 화소 증착을 위한 금속재의 증착용 마스크에 있어서, 상기 증착용 마스크는 증착 패턴을 형성하기 위한 증착 영역 및 증착 영역 이외의 비증착 영역을 포함하고, 상기 증착 영역은 길이 방향으로 이격된 복수개의 유효부 및 상기 유효부 이외의 비유효부를 포함하고, 상기 유효부는, 일면 상에 형성된 다수의 소면공; 상기 일면과 반대되는 타면상에 형성된 다수의 대면공; 상기 소면공과 상기 대면공을 연통하는 관통홀; 및 상기 다수의 관통홀 사이의 아일랜드부;를 포함하고, 상기 관통홀의 직경은 33um이하이고, 상기 관통홀 간의 간격이 48um 이하인 500PPI 이상의 해상도를 가지며, 상기 일면에 대한 소면공의 경사각은 70도 내지 89도이고, 상기 일면에 대한 소면공의 경사 곡률반경은 3㎛ 내지 86㎛이다. 실시예에 따른 OLED 화소 증착을 위한 금속재의 증착용 마스크는, 20㎛ 내지 30㎛ 두께의 베이스 금속판을 준비하는 제 1 단계; 상기 베이스 금속판의 일면 상에 패턴화된 포토레지스트층을 배치하고, 상기 토레지스트층의 오픈부를 하프 에칭하여 상기 베이스 금속판의 일면 상에 홈을 형성하고, 상기 베이스 금속판의 상기 일면과 반대되는 타면 상에 패턴화된 포토레지스트층을 배치하고, 상기 포토레지스트층의 오픈부를 에칭하여 상기 베이스 금속판의 일면 상의 홈과 연결되는 관통홀을 형성하는 제 2 단계; 및 상기 포토레지스트층을 제거하여, 상기 일면 상에 형성된 대면공, 상기 일면과 반대되는 타면 상에 형성된 소면공, 상기 대면공 및 상기 소면공의 경계가 연결되는 연통부에 의해 형성되는 관통홀을 포함하는 증착용 마스크를 형성하는 제 3 단계;를 포함하여 제조될 수 있다.</description><language>eng ; kor</language><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; ELECTRICITY ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2023</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20230112&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20230007292A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,309,781,886,25566,76549</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20230112&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20230007292A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>KIM HAE SIK</creatorcontrib><creatorcontrib>PAIK JEE HEUM</creatorcontrib><title>OLED A DEPOSITION MASK OF METAL PLATE MATERIAL FOR OLED PIXEL DEPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING OF THE SAME</title><description>The present invention relates to a mask for deposition of metal materials for OLED pixel deposition and a method for manufacturing the same. The mask for deposition of metal materials, according to the present invention, comprises a metal plate including one side and another side opposite to the one side, wherein the metal plate includes a deposition region and a non-deposition region. According to the present invention, deposition defects can be minimized.
실시예에 따른 OLED 화소 증착을 위한 금속재의 증착용 마스크에 있어서, 상기 증착용 마스크는 증착 패턴을 형성하기 위한 증착 영역 및 증착 영역 이외의 비증착 영역을 포함하고, 상기 증착 영역은 길이 방향으로 이격된 복수개의 유효부 및 상기 유효부 이외의 비유효부를 포함하고, 상기 유효부는, 일면 상에 형성된 다수의 소면공; 상기 일면과 반대되는 타면상에 형성된 다수의 대면공; 상기 소면공과 상기 대면공을 연통하는 관통홀; 및 상기 다수의 관통홀 사이의 아일랜드부;를 포함하고, 상기 관통홀의 직경은 33um이하이고, 상기 관통홀 간의 간격이 48um 이하인 500PPI 이상의 해상도를 가지며, 상기 일면에 대한 소면공의 경사각은 70도 내지 89도이고, 상기 일면에 대한 소면공의 경사 곡률반경은 3㎛ 내지 86㎛이다. 실시예에 따른 OLED 화소 증착을 위한 금속재의 증착용 마스크는, 20㎛ 내지 30㎛ 두께의 베이스 금속판을 준비하는 제 1 단계; 상기 베이스 금속판의 일면 상에 패턴화된 포토레지스트층을 배치하고, 상기 토레지스트층의 오픈부를 하프 에칭하여 상기 베이스 금속판의 일면 상에 홈을 형성하고, 상기 베이스 금속판의 상기 일면과 반대되는 타면 상에 패턴화된 포토레지스트층을 배치하고, 상기 포토레지스트층의 오픈부를 에칭하여 상기 베이스 금속판의 일면 상의 홈과 연결되는 관통홀을 형성하는 제 2 단계; 및 상기 포토레지스트층을 제거하여, 상기 일면 상에 형성된 대면공, 상기 일면과 반대되는 타면 상에 형성된 소면공, 상기 대면공 및 상기 소면공의 경계가 연결되는 연통부에 의해 형성되는 관통홀을 포함하는 증착용 마스크를 형성하는 제 3 단계;를 포함하여 제조될 수 있다.</description><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2023</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNjD0LwkAQRNNYiPofFqyF41KI5ZLbM0fuI1w2YBeCnJVoJP5_TIKFpdUww3uzzl7BkgIERXVoDJvgwWFTQdDgiNFCbZFp2piimaoOERalNheyvxp6NStlUAvk0LcaC26j8ef5jkuCBh1ts9Wtv49p981NttfERXlIw7NL49Bf0yO9uypKIXMhxFGeJOb_UR-CPzg8</recordid><startdate>20230112</startdate><enddate>20230112</enddate><creator>KIM HAE SIK</creator><creator>PAIK JEE HEUM</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20230112</creationdate><title>OLED A DEPOSITION MASK OF METAL PLATE MATERIAL FOR OLED PIXEL DEPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING OF THE SAME</title><author>KIM HAE SIK ; PAIK JEE HEUM</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20230007292A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2023</creationdate><topic>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</topic><topic>COATING METALLIC MATERIAL</topic><topic>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>KIM HAE SIK</creatorcontrib><creatorcontrib>PAIK JEE HEUM</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>KIM HAE SIK</au><au>PAIK JEE HEUM</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>OLED A DEPOSITION MASK OF METAL PLATE MATERIAL FOR OLED PIXEL DEPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING OF THE SAME</title><date>2023-01-12</date><risdate>2023</risdate><abstract>The present invention relates to a mask for deposition of metal materials for OLED pixel deposition and a method for manufacturing the same. The mask for deposition of metal materials, according to the present invention, comprises a metal plate including one side and another side opposite to the one side, wherein the metal plate includes a deposition region and a non-deposition region. According to the present invention, deposition defects can be minimized.
실시예에 따른 OLED 화소 증착을 위한 금속재의 증착용 마스크에 있어서, 상기 증착용 마스크는 증착 패턴을 형성하기 위한 증착 영역 및 증착 영역 이외의 비증착 영역을 포함하고, 상기 증착 영역은 길이 방향으로 이격된 복수개의 유효부 및 상기 유효부 이외의 비유효부를 포함하고, 상기 유효부는, 일면 상에 형성된 다수의 소면공; 상기 일면과 반대되는 타면상에 형성된 다수의 대면공; 상기 소면공과 상기 대면공을 연통하는 관통홀; 및 상기 다수의 관통홀 사이의 아일랜드부;를 포함하고, 상기 관통홀의 직경은 33um이하이고, 상기 관통홀 간의 간격이 48um 이하인 500PPI 이상의 해상도를 가지며, 상기 일면에 대한 소면공의 경사각은 70도 내지 89도이고, 상기 일면에 대한 소면공의 경사 곡률반경은 3㎛ 내지 86㎛이다. 실시예에 따른 OLED 화소 증착을 위한 금속재의 증착용 마스크는, 20㎛ 내지 30㎛ 두께의 베이스 금속판을 준비하는 제 1 단계; 상기 베이스 금속판의 일면 상에 패턴화된 포토레지스트층을 배치하고, 상기 토레지스트층의 오픈부를 하프 에칭하여 상기 베이스 금속판의 일면 상에 홈을 형성하고, 상기 베이스 금속판의 상기 일면과 반대되는 타면 상에 패턴화된 포토레지스트층을 배치하고, 상기 포토레지스트층의 오픈부를 에칭하여 상기 베이스 금속판의 일면 상의 홈과 연결되는 관통홀을 형성하는 제 2 단계; 및 상기 포토레지스트층을 제거하여, 상기 일면 상에 형성된 대면공, 상기 일면과 반대되는 타면 상에 형성된 소면공, 상기 대면공 및 상기 소면공의 경계가 연결되는 연통부에 의해 형성되는 관통홀을 포함하는 증착용 마스크를 형성하는 제 3 단계;를 포함하여 제조될 수 있다.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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