CARBON DIOXIDE SUPPLY SYSTEM AND METHOD FOR SEMICONDUCTOR PROCESS

According to an embodiment of the present invention, a carbon dioxide supply system for semiconductor processing comprises: a transport container transporting liquid carbon dioxide having a first purity; a first analyzer analyzing quality of the liquid carbon dioxide transported by the transport con...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KIM KI HYEON, PARK MYUNG BEOM, KIM JIN SOO, KANG DONG MIN, CHOI SAM JONG, LEE JUN YOUNG
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:According to an embodiment of the present invention, a carbon dioxide supply system for semiconductor processing comprises: a transport container transporting liquid carbon dioxide having a first purity; a first analyzer analyzing quality of the liquid carbon dioxide transported by the transport container; a supply device including at least one storage tank storing the liquid carbon dioxide, a pump connected to the storage tank and moving the liquid carbon dioxide, and a vaporizer vaporizing the liquid carbon dioxide to form gaseous carbon dioxide; a second analyzer analyzing quality of the liquid carbon dioxide charged from the transport container to the supply device; a purification device purifying the gaseous carbon dioxide supplied from the supply device to have a second purity higher than the first purity; a third analyzer analyzing quality of the gaseous carbon dioxide purified by the purification device; semiconductor processing equipment supplied with the purified gaseous carbon dioxide, changing the gaseous carbon dioxide into supercritical carbon dioxide, and performing a semiconductor cleaning process using the supercritical carbon dioxide; and a fourth analyzer analyzing quality of the gaseous carbon dioxide supplied to the semiconductor processing equipment. Accordingly, a carbon dioxide supply system and method for semiconductor processing is provided to supply high purity carbon dioxide to semiconductor processing equipment. 본 발명의 실시예에 따른 반도체 공정용 이산화탄소 공급 시스템은, 제1 순도를 갖는 액상 이산화탄소를 이송하는 이송용 용기, 상기 이송용 용기에 의해 이송되는 상기 액상 이산화탄소의 품질을 분석하는 제1 분석기, 상기 액상 이산화탄소를 저장하는 적어도 하나의 저장탱크, 상기 저장탱크와 연결되며 상기 액상 이산화탄소를 이동시키는 펌프, 및 상기 액상 이산화탄소를 기화시켜 기상 이산화탄소를 형성하는 기화기를 포함하는 공급 장치, 상기 이송용 용기로부터 상기 공급 장치에 충진되는 상기 액상 이산화탄소의 품질을 분석하는 제2 분석기, 상기 공급 장치로부터 공급된 상기 기상 이산화탄소를 상기 제1 순도보다 높은 제2 순도를 갖도록 정제하는 정제 장치, 상기 정제 장치에 의해 정제된 상기 기상 이산화탄소의 품질을 분석하는 제3 분석기, 정제된 상기 기상 이산화탄소가 공급되고, 상기 기상 이산화탄소를 초임계 이산화탄소로 변화시키고, 상기 초임계 이산화탄소를 이용하여 반도체 세정 공정을 수행하는 반도체 공정 설비, 및 상기 반도체 공정 설비에 공급되는 상기 기상 이산화탄소의 품질을 분석하는 제4 분석기를 포함한다.