SHOWERHEAD SHROUD

프로세싱 챔버는 상부 표면 및 상부 표면을 통해 프로세싱 챔버 내로 가스들을 공급하도록 구성된 샤워헤드를 포함한다. 샤워헤드의 적어도 일부는 프로세싱 챔버의 상부 표면 위로 연장된다. 슈라우드 인클로저 (shroud enclosure) 가 프로세싱 챔버의 상부 표면 상에 배치된다. 슈라우드 인클로저는 프로세싱 챔버의 상부 표면 위로 연장하는 샤워헤드의 일부 주위에 배치되고 샤워헤드에 의해 생성된 무선 주파수 간섭을 고립하도록 (isolate) 구성된다. A processing chamber includes an upper surfa...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	BORTH ANDREW, RAMSAYER CHRISTOPHER
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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