SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
[과제] 감압 분위기하에서 기판을 반송하는 기판 반송 장치에 있어서, 기판의 위치를 상시 감시 가능하게 한다. [해결 수단] 기판 처리 장치에 대하여 감압 분위기하에서 기판을 반송하는 기판 반송 장치로서, 상기 기판을 보지하는 기판 보지부와, 상기 기판 보지부에 마련되고, 해당 기판 보지부에 대한 상기 기판의 위치를 측정하는 기판 측정부를 구비한다. The present disclosure relates to a substrate transfer apparatus for transferring a substrate to a subs...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | [과제] 감압 분위기하에서 기판을 반송하는 기판 반송 장치에 있어서, 기판의 위치를 상시 감시 가능하게 한다. [해결 수단] 기판 처리 장치에 대하여 감압 분위기하에서 기판을 반송하는 기판 반송 장치로서, 상기 기판을 보지하는 기판 보지부와, 상기 기판 보지부에 마련되고, 해당 기판 보지부에 대한 상기 기판의 위치를 측정하는 기판 측정부를 구비한다.
The present disclosure relates to a substrate transfer apparatus for transferring a substrate to a substrate processing apparatus in a reduced pressure atmosphere. The apparatus comprises a substrate holder to hold the substrate; and a substrate measurer, provided on the substrate holder, to measure a position of the substrate with respect to the substrate holder. |
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