TUNGSTEN OXIDE SINTERED BODY SPUTTERING TARGET AND OXIDE THIN FILM

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본 발명은 텅스텐 산화물 소결체, 상기 소결체를 포함하는 스퍼터링 타겟 및 이로부터 형성된 산화물 박막을 제공한다. 본 발명에서는 난(難)소결성 텅스텐 산화물에 특정 (준)금속 산화물을 소정 범위로 첨가함으로써, 무가압 소결을 실시하더라도 소결성 개선과 고밀도 특성을 동시에 확보할 수 있다....

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	JANG BONGJUNG, LEE HYOWON, YANG SEUNGHO, PARK JAESOUNG, HWANG BYUNGJIN, LEE SEUNGYI
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	ARTIFICIAL STONE CEMENTS CERAMICS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDINGMATERIALS CONCRETE DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL LIME, MAGNESIA METALLURGY REFRACTORIES SLAG SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION TREATMENT OF NATURAL STONE
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 텅스텐 산화물 소결체, 상기 소결체를 포함하는 스퍼터링 타겟 및 이로부터 형성된 산화물 박막을 제공한다. 본 발명에서는 난(難)소결성 텅스텐 산화물에 특정 (준)금속 산화물을 소정 범위로 첨가함으로써, 무가압 소결을 실시하더라도 소결성 개선과 고밀도 특성을 동시에 확보할 수 있다.