벌크 GaN 결정, c 면 GaN 웨이퍼 및 벌크 GaN 결정의 제조 방법
c 면의 만곡의 정도가 저감된 벌크 GaN 결정을 제공하는 것. (0001) 결정면으로부터의 경사가 0 도 이상 10 도 이하인 면, 및 (000-1) 결정면으로부터의 경사가 0 도 이상 10 도 이하인 면에서 선택되는 주면을 갖고, 그 주면이, 하기의 조건 (i) 및 (ii) 를 충족하는 특정 주면 A 인, 벌크 GaN 결정. (i) 그 특정 주면 A 상을 제 1 방향으로 연장되는 길이 80 ㎜ 의 가상적인 선분인 제 1 라인을 그을 수 있고, 그 제 1 라인 상에 5 ㎜ 피치로 나열된 17 개의 측정점 사이에 있어서의, 오메가축...
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description | c 면의 만곡의 정도가 저감된 벌크 GaN 결정을 제공하는 것. (0001) 결정면으로부터의 경사가 0 도 이상 10 도 이하인 면, 및 (000-1) 결정면으로부터의 경사가 0 도 이상 10 도 이하인 면에서 선택되는 주면을 갖고, 그 주면이, 하기의 조건 (i) 및 (ii) 를 충족하는 특정 주면 A 인, 벌크 GaN 결정. (i) 그 특정 주면 A 상을 제 1 방향으로 연장되는 길이 80 ㎜ 의 가상적인 선분인 제 1 라인을 그을 수 있고, 그 제 1 라인 상에 5 ㎜ 피치로 나열된 17 개의 측정점 사이에 있어서의, 오메가축을 그 제 1 방향과 수직으로 하여 측정된 당해 GaN 결정의 (002) XRD 로킹 커브의 피크 각도의 최대값과 최소값의 차가 0.05 도 이하이다 ; (ii) 그 특정 주면 A 상을 그 제 1 방향과 수직인 제 2 방향으로 연장되는 길이 80 ㎜ 의 가상적인 선분인 제 2 라인을 그을 수 있고, 그 제 2 라인 상에 5 ㎜ 피치로 나열된 17 개의 측정점 사이에 있어서의, 오메가축을 그 제 2 방향과 수직으로 하여 측정된 당해 GaN 결정의 (002) XRD 로킹 커브의 피크 각도의 최대값과 최소값의 차가 0.05 도 이하이다.
Provided is a bulk GaN crystal in which the degree of curvature of the c-plane is reduced. The bulk GaN crystal includes a main surface selected from a surface inclined at 0° to 10° from the (0001) crystal plane and a surface inclined at 0° to 10° from the (000-1) crystal plane, and the main surface is a specific main surface A that satisfies the following conditions (i) and (ii): (i) a first line, which is a 80 mm-long virtual line segment extending in a first direction on the specific main surface A, can be drawn, and a difference between a maximum value and a minimum value of peak angles in (002) XRD rocking curves of the GaN crystal, which is measured between 17 measurement points arranged at a 5-mm pitch on the first line with the omega axis being perpendicular to the first direction, is 0.05° or less; and (ii) a second line, which is a 80 mm-long virtual line segment extending in a second direction perpendicular to the first direction on the specific main surface A, can be drawn, and a difference between a maximum value and a minimum value of peak angles in (002) XRD rocking curves of the GaN crystal, which is measured between 17 measurement points arranged at a 5-mm pitch on the second line with the omega axis being perpendicular to the second direction, is 0.05° or less. |
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Provided is a bulk GaN crystal in which the degree of curvature of the c-plane is reduced. The bulk GaN crystal includes a main surface selected from a surface inclined at 0° to 10° from the (0001) crystal plane and a surface inclined at 0° to 10° from the (000-1) crystal plane, and the main surface is a specific main surface A that satisfies the following conditions (i) and (ii): (i) a first line, which is a 80 mm-long virtual line segment extending in a first direction on the specific main surface A, can be drawn, and a difference between a maximum value and a minimum value of peak angles in (002) XRD rocking curves of the GaN crystal, which is measured between 17 measurement points arranged at a 5-mm pitch on the first line with the omega axis being perpendicular to the first direction, is 0.05° or less; and (ii) a second line, which is a 80 mm-long virtual line segment extending in a second direction perpendicular to the first direction on the specific main surface A, can be drawn, and a difference between a maximum value and a minimum value of peak angles in (002) XRD rocking curves of the GaN crystal, which is measured between 17 measurement points arranged at a 5-mm pitch on the second line with the omega axis being perpendicular to the second direction, is 0.05° or less.</description><language>kor</language><subject>AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUSPOLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE ; APPARATUS THEREFOR ; CHEMISTRY ; CRYSTAL GROWTH ; METALLURGY ; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE ; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL ; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE ; SINGLE-CRYSTAL-GROWTH ; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL ORUNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL</subject><creationdate>2022</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220311&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20220031042A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76290</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220311&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20220031042A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>MIKAWA YUTAKA</creatorcontrib><creatorcontrib>OKANO TETSUO</creatorcontrib><title>벌크 GaN 결정, c 면 GaN 웨이퍼 및 벌크 GaN 결정의 제조 방법</title><description>c 면의 만곡의 정도가 저감된 벌크 GaN 결정을 제공하는 것. (0001) 결정면으로부터의 경사가 0 도 이상 10 도 이하인 면, 및 (000-1) 결정면으로부터의 경사가 0 도 이상 10 도 이하인 면에서 선택되는 주면을 갖고, 그 주면이, 하기의 조건 (i) 및 (ii) 를 충족하는 특정 주면 A 인, 벌크 GaN 결정. (i) 그 특정 주면 A 상을 제 1 방향으로 연장되는 길이 80 ㎜ 의 가상적인 선분인 제 1 라인을 그을 수 있고, 그 제 1 라인 상에 5 ㎜ 피치로 나열된 17 개의 측정점 사이에 있어서의, 오메가축을 그 제 1 방향과 수직으로 하여 측정된 당해 GaN 결정의 (002) XRD 로킹 커브의 피크 각도의 최대값과 최소값의 차가 0.05 도 이하이다 ; (ii) 그 특정 주면 A 상을 그 제 1 방향과 수직인 제 2 방향으로 연장되는 길이 80 ㎜ 의 가상적인 선분인 제 2 라인을 그을 수 있고, 그 제 2 라인 상에 5 ㎜ 피치로 나열된 17 개의 측정점 사이에 있어서의, 오메가축을 그 제 2 방향과 수직으로 하여 측정된 당해 GaN 결정의 (002) XRD 로킹 커브의 피크 각도의 최대값과 최소값의 차가 0.05 도 이하이다.
Provided is a bulk GaN crystal in which the degree of curvature of the c-plane is reduced. The bulk GaN crystal includes a main surface selected from a surface inclined at 0° to 10° from the (0001) crystal plane and a surface inclined at 0° to 10° from the (000-1) crystal plane, and the main surface is a specific main surface A that satisfies the following conditions (i) and (ii): (i) a first line, which is a 80 mm-long virtual line segment extending in a first direction on the specific main surface A, can be drawn, and a difference between a maximum value and a minimum value of peak angles in (002) XRD rocking curves of the GaN crystal, which is measured between 17 measurement points arranged at a 5-mm pitch on the first line with the omega axis being perpendicular to the first direction, is 0.05° or less; and (ii) a second line, which is a 80 mm-long virtual line segment extending in a second direction perpendicular to the first direction on the specific main surface A, can be drawn, and a difference between a maximum value and a minimum value of peak angles in (002) XRD rocking curves of the GaN crystal, which is measured between 17 measurement points arranged at a 5-mm pitch on the second line with the omega axis being perpendicular to the second direction, is 0.05° or less.</description><subject>AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUSPOLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE</subject><subject>APPARATUS THEREFOR</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>CRYSTAL GROWTH</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE</subject><subject>REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL</subject><subject>SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE</subject><subject>SINGLE-CRYSTAL-GROWTH</subject><subject>UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL ORUNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2022</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZPB9vannbeMaBfdEP4VXmza8WTBVRyFZ4fXKLWCRN7NXvJm75W3vHoXXG_oVMJS-mTtD4c2COW8WbgDKr3y9aSoPA2taYk5xKi-U5mZQdnMNcfbQTS3Ij08tLkhMTs1LLYn3DjIyMDIyMDA2NDAxcjQmThUASahGUQ</recordid><startdate>20220311</startdate><enddate>20220311</enddate><creator>MIKAWA YUTAKA</creator><creator>OKANO TETSUO</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20220311</creationdate><title>벌크 GaN 결정, c 면 GaN 웨이퍼 및 벌크 GaN 결정의 제조 방법</title><author>MIKAWA YUTAKA ; OKANO TETSUO</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20220031042A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>kor</language><creationdate>2022</creationdate><topic>AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUSPOLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE</topic><topic>APPARATUS THEREFOR</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>CRYSTAL GROWTH</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE</topic><topic>REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL</topic><topic>SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE</topic><topic>SINGLE-CRYSTAL-GROWTH</topic><topic>UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL ORUNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>MIKAWA YUTAKA</creatorcontrib><creatorcontrib>OKANO TETSUO</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>MIKAWA YUTAKA</au><au>OKANO TETSUO</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>벌크 GaN 결정, c 면 GaN 웨이퍼 및 벌크 GaN 결정의 제조 방법</title><date>2022-03-11</date><risdate>2022</risdate><abstract>c 면의 만곡의 정도가 저감된 벌크 GaN 결정을 제공하는 것. (0001) 결정면으로부터의 경사가 0 도 이상 10 도 이하인 면, 및 (000-1) 결정면으로부터의 경사가 0 도 이상 10 도 이하인 면에서 선택되는 주면을 갖고, 그 주면이, 하기의 조건 (i) 및 (ii) 를 충족하는 특정 주면 A 인, 벌크 GaN 결정. (i) 그 특정 주면 A 상을 제 1 방향으로 연장되는 길이 80 ㎜ 의 가상적인 선분인 제 1 라인을 그을 수 있고, 그 제 1 라인 상에 5 ㎜ 피치로 나열된 17 개의 측정점 사이에 있어서의, 오메가축을 그 제 1 방향과 수직으로 하여 측정된 당해 GaN 결정의 (002) XRD 로킹 커브의 피크 각도의 최대값과 최소값의 차가 0.05 도 이하이다 ; (ii) 그 특정 주면 A 상을 그 제 1 방향과 수직인 제 2 방향으로 연장되는 길이 80 ㎜ 의 가상적인 선분인 제 2 라인을 그을 수 있고, 그 제 2 라인 상에 5 ㎜ 피치로 나열된 17 개의 측정점 사이에 있어서의, 오메가축을 그 제 2 방향과 수직으로 하여 측정된 당해 GaN 결정의 (002) XRD 로킹 커브의 피크 각도의 최대값과 최소값의 차가 0.05 도 이하이다.
Provided is a bulk GaN crystal in which the degree of curvature of the c-plane is reduced. The bulk GaN crystal includes a main surface selected from a surface inclined at 0° to 10° from the (0001) crystal plane and a surface inclined at 0° to 10° from the (000-1) crystal plane, and the main surface is a specific main surface A that satisfies the following conditions (i) and (ii): (i) a first line, which is a 80 mm-long virtual line segment extending in a first direction on the specific main surface A, can be drawn, and a difference between a maximum value and a minimum value of peak angles in (002) XRD rocking curves of the GaN crystal, which is measured between 17 measurement points arranged at a 5-mm pitch on the first line with the omega axis being perpendicular to the first direction, is 0.05° or less; and (ii) a second line, which is a 80 mm-long virtual line segment extending in a second direction perpendicular to the first direction on the specific main surface A, can be drawn, and a difference between a maximum value and a minimum value of peak angles in (002) XRD rocking curves of the GaN crystal, which is measured between 17 measurement points arranged at a 5-mm pitch on the second line with the omega axis being perpendicular to the second direction, is 0.05° or less.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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