INFORMATION PROCESSING APPARATUS AND MONITORING METHOD
The present disclosure provides a technique for detecting an abnormality in a semiconductor manufacturing device. An information processing device for detecting an abnormality in the semiconductor manufacturing device comprises: a sensor data acquisition unit which acquires sensor waveform data with...
Gespeichert in:
| Hauptverfasser: | , , , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; kor |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext bestellen |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| container_end_page | |
|---|---|
| container_issue | |
| container_start_page | |
| container_title | |
| container_volume | |
| creator | TERASAWA NOBUTOSHI SARUWATARI SHINTARO SHOJI KAZUSHI MIYAZAKI MOTOKATSU |
| description | The present disclosure provides a technique for detecting an abnormality in a semiconductor manufacturing device. An information processing device for detecting an abnormality in the semiconductor manufacturing device comprises: a sensor data acquisition unit which acquires sensor waveform data with a sensor value and time as an axis, measured in the semiconductor manufacturing device executing a process according to the same recipe; a monitoring band calculating unit which calculates each monitoring band for an axis of the sensor value and an axis of time used in the waveform monitoring method from the sensor waveform data of a predetermined number or more; and an abnormality predictive detection unit which performs waveform monitoring of the sensor waveform data using respective monitoring bands for the sensor value axis and the time axis, and detects the abnormality prediction of the semiconductor manufacturing device.
[과제] 본 개시는 반도체 제조 장치의 이상 예조를 검지하는 기술을 제공한다. [해결수단] 반도체 제조 장치의 이상 예조를 검지하는 정보 처리 장치로서, 동일한 레시피에 따라 프로세스를 실행 중인 반도체 제조 장치에서 측정된, 센서값 및 시간을 축으로 한 센서 파형 데이터를 취득하는 센서 데이터 취득부와, 파형 감시 방법에 이용하는 센서값의 축 및 시간의 축에 대한 각각의 감시용 밴드를, 미리 정해진 수 이상의 센서 파형 데이터로부터 산출하는 감시용 밴드 산출부와, 센서값의 축 및 시간의 축에 대한 각각의 감시용 밴드를 이용한 센서 파형 데이터의 파형 감시를 행하여, 반도체 제조 장치의 이상 예조를 검지하는 이상 예조 검지부를 가짐으로써 상기 과제를 해결한다. |
| format | Patent |
| fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_KR20210158332A</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>KR20210158332A</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_KR20210158332A3</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZDDz9HPzD_J1DPH091MICPJ3dg0O9vRzV3AMCHAMcgwJDVZw9HNR8PX38wzxDwJJ-LqGePi78DCwpiXmFKfyQmluBmU31xBnD93Ugvz41OKCxOTUvNSSeO8gIwMjQwNDUwtjYyNHY-JUAQDh5ykd</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>INFORMATION PROCESSING APPARATUS AND MONITORING METHOD</title><source>esp@cenet</source><creator>TERASAWA NOBUTOSHI ; SARUWATARI SHINTARO ; SHOJI KAZUSHI ; MIYAZAKI MOTOKATSU</creator><creatorcontrib>TERASAWA NOBUTOSHI ; SARUWATARI SHINTARO ; SHOJI KAZUSHI ; MIYAZAKI MOTOKATSU</creatorcontrib><description>The present disclosure provides a technique for detecting an abnormality in a semiconductor manufacturing device. An information processing device for detecting an abnormality in the semiconductor manufacturing device comprises: a sensor data acquisition unit which acquires sensor waveform data with a sensor value and time as an axis, measured in the semiconductor manufacturing device executing a process according to the same recipe; a monitoring band calculating unit which calculates each monitoring band for an axis of the sensor value and an axis of time used in the waveform monitoring method from the sensor waveform data of a predetermined number or more; and an abnormality predictive detection unit which performs waveform monitoring of the sensor waveform data using respective monitoring bands for the sensor value axis and the time axis, and detects the abnormality prediction of the semiconductor manufacturing device.
[과제] 본 개시는 반도체 제조 장치의 이상 예조를 검지하는 기술을 제공한다. [해결수단] 반도체 제조 장치의 이상 예조를 검지하는 정보 처리 장치로서, 동일한 레시피에 따라 프로세스를 실행 중인 반도체 제조 장치에서 측정된, 센서값 및 시간을 축으로 한 센서 파형 데이터를 취득하는 센서 데이터 취득부와, 파형 감시 방법에 이용하는 센서값의 축 및 시간의 축에 대한 각각의 감시용 밴드를, 미리 정해진 수 이상의 센서 파형 데이터로부터 산출하는 감시용 밴드 산출부와, 센서값의 축 및 시간의 축에 대한 각각의 감시용 밴드를 이용한 센서 파형 데이터의 파형 감시를 행하여, 반도체 제조 장치의 이상 예조를 검지하는 이상 예조 검지부를 가짐으로써 상기 과제를 해결한다.</description><language>eng ; kor</language><subject>CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL ; CONTROLLING ; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS ; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS ORELEMENTS ; PHYSICS ; REGULATING</subject><creationdate>2021</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20211230&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20210158332A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25562,76317</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20211230&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20210158332A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>TERASAWA NOBUTOSHI</creatorcontrib><creatorcontrib>SARUWATARI SHINTARO</creatorcontrib><creatorcontrib>SHOJI KAZUSHI</creatorcontrib><creatorcontrib>MIYAZAKI MOTOKATSU</creatorcontrib><title>INFORMATION PROCESSING APPARATUS AND MONITORING METHOD</title><description>The present disclosure provides a technique for detecting an abnormality in a semiconductor manufacturing device. An information processing device for detecting an abnormality in the semiconductor manufacturing device comprises: a sensor data acquisition unit which acquires sensor waveform data with a sensor value and time as an axis, measured in the semiconductor manufacturing device executing a process according to the same recipe; a monitoring band calculating unit which calculates each monitoring band for an axis of the sensor value and an axis of time used in the waveform monitoring method from the sensor waveform data of a predetermined number or more; and an abnormality predictive detection unit which performs waveform monitoring of the sensor waveform data using respective monitoring bands for the sensor value axis and the time axis, and detects the abnormality prediction of the semiconductor manufacturing device.
[과제] 본 개시는 반도체 제조 장치의 이상 예조를 검지하는 기술을 제공한다. [해결수단] 반도체 제조 장치의 이상 예조를 검지하는 정보 처리 장치로서, 동일한 레시피에 따라 프로세스를 실행 중인 반도체 제조 장치에서 측정된, 센서값 및 시간을 축으로 한 센서 파형 데이터를 취득하는 센서 데이터 취득부와, 파형 감시 방법에 이용하는 센서값의 축 및 시간의 축에 대한 각각의 감시용 밴드를, 미리 정해진 수 이상의 센서 파형 데이터로부터 산출하는 감시용 밴드 산출부와, 센서값의 축 및 시간의 축에 대한 각각의 감시용 밴드를 이용한 센서 파형 데이터의 파형 감시를 행하여, 반도체 제조 장치의 이상 예조를 검지하는 이상 예조 검지부를 가짐으로써 상기 과제를 해결한다.</description><subject>CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL</subject><subject>CONTROLLING</subject><subject>FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS</subject><subject>MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS ORELEMENTS</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>REGULATING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2021</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZDDz9HPzD_J1DPH091MICPJ3dg0O9vRzV3AMCHAMcgwJDVZw9HNR8PX38wzxDwJJ-LqGePi78DCwpiXmFKfyQmluBmU31xBnD93Ugvz41OKCxOTUvNSSeO8gIwMjQwNDUwtjYyNHY-JUAQDh5ykd</recordid><startdate>20211230</startdate><enddate>20211230</enddate><creator>TERASAWA NOBUTOSHI</creator><creator>SARUWATARI SHINTARO</creator><creator>SHOJI KAZUSHI</creator><creator>MIYAZAKI MOTOKATSU</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20211230</creationdate><title>INFORMATION PROCESSING APPARATUS AND MONITORING METHOD</title><author>TERASAWA NOBUTOSHI ; SARUWATARI SHINTARO ; SHOJI KAZUSHI ; MIYAZAKI MOTOKATSU</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20210158332A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2021</creationdate><topic>CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL</topic><topic>CONTROLLING</topic><topic>FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS</topic><topic>MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS ORELEMENTS</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>REGULATING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>TERASAWA NOBUTOSHI</creatorcontrib><creatorcontrib>SARUWATARI SHINTARO</creatorcontrib><creatorcontrib>SHOJI KAZUSHI</creatorcontrib><creatorcontrib>MIYAZAKI MOTOKATSU</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>TERASAWA NOBUTOSHI</au><au>SARUWATARI SHINTARO</au><au>SHOJI KAZUSHI</au><au>MIYAZAKI MOTOKATSU</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>INFORMATION PROCESSING APPARATUS AND MONITORING METHOD</title><date>2021-12-30</date><risdate>2021</risdate><abstract>The present disclosure provides a technique for detecting an abnormality in a semiconductor manufacturing device. An information processing device for detecting an abnormality in the semiconductor manufacturing device comprises: a sensor data acquisition unit which acquires sensor waveform data with a sensor value and time as an axis, measured in the semiconductor manufacturing device executing a process according to the same recipe; a monitoring band calculating unit which calculates each monitoring band for an axis of the sensor value and an axis of time used in the waveform monitoring method from the sensor waveform data of a predetermined number or more; and an abnormality predictive detection unit which performs waveform monitoring of the sensor waveform data using respective monitoring bands for the sensor value axis and the time axis, and detects the abnormality prediction of the semiconductor manufacturing device.
[과제] 본 개시는 반도체 제조 장치의 이상 예조를 검지하는 기술을 제공한다. [해결수단] 반도체 제조 장치의 이상 예조를 검지하는 정보 처리 장치로서, 동일한 레시피에 따라 프로세스를 실행 중인 반도체 제조 장치에서 측정된, 센서값 및 시간을 축으로 한 센서 파형 데이터를 취득하는 센서 데이터 취득부와, 파형 감시 방법에 이용하는 센서값의 축 및 시간의 축에 대한 각각의 감시용 밴드를, 미리 정해진 수 이상의 센서 파형 데이터로부터 산출하는 감시용 밴드 산출부와, 센서값의 축 및 시간의 축에 대한 각각의 감시용 밴드를 이용한 센서 파형 데이터의 파형 감시를 행하여, 반도체 제조 장치의 이상 예조를 검지하는 이상 예조 검지부를 가짐으로써 상기 과제를 해결한다.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
| fulltext | fulltext_linktorsrc |
| identifier | |
| ispartof | |
| issn | |
| language | eng ; kor |
| recordid | cdi_epo_espacenet_KR20210158332A |
| source | esp@cenet |
| subjects | CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL CONTROLLING FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS ORELEMENTS PHYSICS REGULATING |
| title | INFORMATION PROCESSING APPARATUS AND MONITORING METHOD |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-09T12%3A47%3A07IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=TERASAWA%20NOBUTOSHI&rft.date=2021-12-30&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EKR20210158332A%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |