리소그래피 장치 내의 지지부를 청결하게 하는 장치 및 방법
리소그래피 시스템 내의 지지 구조체를 청결하게 하기 위한 장치 및 방법이 개시되며, 청결화 기판은 적어도 하나의 모터를 가지며, 이 모터에 의해 그 청결화 기판이 표면을 가로질러 측방향으로 움직인다. 청결화 기판에는, 청결화 기판에 장착되고 모터에 선택 가능하게 전기적으로 연결될 수 있는 전력 공급부가 제공될 수 있다. An apparatus for and method of cleaning a surface of a support structure in a lithographic system in which a cleaning su...
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| Format: | Patent |
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| creator | JOHNSON RICHARD JOHN VANN CHRISTOPHER ROSSI WALSH JAMES HAMILTON |
| description | 리소그래피 시스템 내의 지지 구조체를 청결하게 하기 위한 장치 및 방법이 개시되며, 청결화 기판은 적어도 하나의 모터를 가지며, 이 모터에 의해 그 청결화 기판이 표면을 가로질러 측방향으로 움직인다. 청결화 기판에는, 청결화 기판에 장착되고 모터에 선택 가능하게 전기적으로 연결될 수 있는 전력 공급부가 제공될 수 있다.
An apparatus for and method of cleaning a surface of a support structure in a lithographic system in which a cleaning substrate has at least one motor which causes the cleaning substrate to move laterally across the surface. The cleaning substrate may be provided with a power supply mounted on the cleaning substrate and selectably electrically connectable to the motor. |
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An apparatus for and method of cleaning a surface of a support structure in a lithographic system in which a cleaning substrate has at least one motor which causes the cleaning substrate to move laterally across the surface. The cleaning substrate may be provided with a power supply mounted on the cleaning substrate and selectably electrically connectable to the motor.</description><language>kor</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2021</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20210608&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20210068126A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20210608&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20210068126A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>JOHNSON RICHARD JOHN</creatorcontrib><creatorcontrib>VANN CHRISTOPHER ROSSI</creatorcontrib><creatorcontrib>WALSH JAMES HAMILTON</creatorcontrib><title>리소그래피 장치 내의 지지부를 청결하게 하는 장치 및 방법</title><description>리소그래피 시스템 내의 지지 구조체를 청결하게 하기 위한 장치 및 방법이 개시되며, 청결화 기판은 적어도 하나의 모터를 가지며, 이 모터에 의해 그 청결화 기판이 표면을 가로질러 측방향으로 움직인다. 청결화 기판에는, 청결화 기판에 장착되고 모터에 선택 가능하게 전기적으로 연결될 수 있는 전력 공급부가 제공될 수 있다.
An apparatus for and method of cleaning a surface of a support structure in a lithographic system in which a cleaning substrate has at least one motor which causes the cleaning substrate to move laterally across the surface. The cleaning substrate may be provided with a power supply mounted on the cleaning substrate and selectably electrically connectable to the motor.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2021</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZAh4vWzNm7aeV9t3vJ434-2UPQpv5i19s3OGwuumLW_mzlB4s7wBiF5va3i9FCi1ae2rTRveTp3xalOPApB63TUFrnxDPxCvfL1pKg8Da1piTnEqL5TmZlB2cw1x9tBNLciPTy0uSExOzUstifcOMjIwMjQwMLMwNDJzNCZOFQCTsk9G</recordid><startdate>20210608</startdate><enddate>20210608</enddate><creator>JOHNSON RICHARD JOHN</creator><creator>VANN CHRISTOPHER ROSSI</creator><creator>WALSH JAMES HAMILTON</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20210608</creationdate><title>리소그래피 장치 내의 지지부를 청결하게 하는 장치 및 방법</title><author>JOHNSON RICHARD JOHN ; VANN CHRISTOPHER ROSSI ; WALSH JAMES HAMILTON</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20210068126A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>kor</language><creationdate>2021</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>JOHNSON RICHARD JOHN</creatorcontrib><creatorcontrib>VANN CHRISTOPHER ROSSI</creatorcontrib><creatorcontrib>WALSH JAMES HAMILTON</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>JOHNSON RICHARD JOHN</au><au>VANN CHRISTOPHER ROSSI</au><au>WALSH JAMES HAMILTON</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>리소그래피 장치 내의 지지부를 청결하게 하는 장치 및 방법</title><date>2021-06-08</date><risdate>2021</risdate><abstract>리소그래피 시스템 내의 지지 구조체를 청결하게 하기 위한 장치 및 방법이 개시되며, 청결화 기판은 적어도 하나의 모터를 가지며, 이 모터에 의해 그 청결화 기판이 표면을 가로질러 측방향으로 움직인다. 청결화 기판에는, 청결화 기판에 장착되고 모터에 선택 가능하게 전기적으로 연결될 수 있는 전력 공급부가 제공될 수 있다.
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