리소그래피 장치 내의 지지부를 청결하게 하는 장치 및 방법

리소그래피 시스템 내의 지지 구조체를 청결하게 하기 위한 장치 및 방법이 개시되며, 청결화 기판은 적어도 하나의 모터를 가지며, 이 모터에 의해 그 청결화 기판이 표면을 가로질러 측방향으로 움직인다. 청결화 기판에는, 청결화 기판에 장착되고 모터에 선택 가능하게 전기적으로 연결될 수 있는 전력 공급부가 제공될 수 있다. An apparatus for and method of cleaning a surface of a support structure in a lithographic system in which a cleaning su...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	JOHNSON RICHARD JOHN, VANN CHRISTOPHER ROSSI, WALSH JAMES HAMILTON
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	리소그래피 시스템 내의 지지 구조체를 청결하게 하기 위한 장치 및 방법이 개시되며, 청결화 기판은 적어도 하나의 모터를 가지며, 이 모터에 의해 그 청결화 기판이 표면을 가로질러 측방향으로 움직인다. 청결화 기판에는, 청결화 기판에 장착되고 모터에 선택 가능하게 전기적으로 연결될 수 있는 전력 공급부가 제공될 수 있다. An apparatus for and method of cleaning a surface of a support structure in a lithographic system in which a cleaning substrate has at least one motor which causes the cleaning substrate to move laterally across the surface. The cleaning substrate may be provided with a power supply mounted on the cleaning substrate and selectably electrically connectable to the motor.