FOCUSED ION BEAM APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING THE SAME

The present invention provides a focused ion beam device capable of controlling a beam to a desired trajectory, a composite focused ion beam device, and a control method of the focused ion beam device. The focused ion beam device comprises: an ion source generating ions; a first electrostatic lens accelerating and focusing the ions to form an ion beam; a beam booster electrode further accelerating the ion beam; one or more electrodes installed in the beam booster electrode for electrostatically deflecting the ion beam; a second electrostatic lens disposed between one or a plurality of electrodes and a sample stage and focusing the ion beam to which a voltage is applied; and a processing unit acquiring a measurement condition and setting at least one of a voltage applied to each of the one or the plurality of electrodes and a voltage applied to the electrostatic lens based on the acquired measurement condition. 빔을 원하는 궤도로 제어할 수 있는 집속 이온 빔 장치, 복합 집속 이온 빔 장치, 및 집속 이온 빔 장치의 제어 방법을 제공하는 것이다. 집속 이온 빔 장치는, 이온을 발생시키는 이온원과, 이온을 가속시키고 집속시켜 이온 빔을 형성하는 제1 정전 렌즈와, 이온 빔을 더욱 가속시키는 빔 부스터 전극과, 빔 부스터 전극 내에 설치되며, 이온 빔을 정전 편향시키는 하나 또는 복수의 전극과, 하나 또는 복수의 전극과 시료대의 사이에 배치되며, 전압이 인가된 이온 빔을 집속하는 제2 정전 렌즈와, 측정 조건을 취득하고, 취득한 측정 조건에 의거하여, 하나 또는 복수의 전극에 인가하는 전압의 각각, 및 정전 렌즈에 인가하는 전압 중 적어도 하나를 설정하는 처리부를 구비한다.