CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS

A charged particle beam apparatus can speed up automatic microsampling. The charged particle beam apparatus for automatically producing a sample piece from a sample comprises: a charged particle beam irradiation optical system irradiating a charged particle beam; a sample stage moved by placing the...

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Hauptverfasser: UEMOTO ATSUSHI, MURAKI AYANA, ASAHATA TATSUYA
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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creator UEMOTO ATSUSHI
MURAKI AYANA
ASAHATA TATSUYA
description A charged particle beam apparatus can speed up automatic microsampling. The charged particle beam apparatus for automatically producing a sample piece from a sample comprises: a charged particle beam irradiation optical system irradiating a charged particle beam; a sample stage moved by placing the sample; a sample piece transfer means holding and conveying the sample piece separated and extracted from the sample; a holder fixing board holding a sample piece holder to which the sample piece is transferred; and a computer controlling a position with respect to a second object based on a machine learning model in which first information including a first image of a first object is learned and second information including a second image acquired by irradiation of the charged particle beam. (과제) 자동 마이크로 샘플링을 고속화할 수 있는 것이다. (해결 수단) 하전 입자 빔 장치는, 시료로부터 시료편을 자동적으로 제작하는 하전 입자 빔 장치로서, 하전 입자 빔을 조사하는 하전 입자 빔 조사 광학계와, 상기 시료를 재치(載置)하여 이동하는 시료 스테이지와, 상기 시료로부터 분리 및 적출하는 상기 시료편을 유지하여 반송하는 시료편 이설(移設) 수단과, 상기 시료편이 이설되는 시료편 홀더를 유지하는 홀더 고정대와, 제1 대상물의 제1 화상을 포함하는 제1 정보가 학습된 기계 학습 모델과, 상기 하전 입자 빔의 조사에 의해 취득한 제2 화상을 포함하는 제2 정보에 의거하여 제2 대상물에 관한 위치의 제어를 행하는 컴퓨터를 구비하는 하전 입자 빔 장치이다.
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The charged particle beam apparatus for automatically producing a sample piece from a sample comprises: a charged particle beam irradiation optical system irradiating a charged particle beam; a sample stage moved by placing the sample; a sample piece transfer means holding and conveying the sample piece separated and extracted from the sample; a holder fixing board holding a sample piece holder to which the sample piece is transferred; and a computer controlling a position with respect to a second object based on a machine learning model in which first information including a first image of a first object is learned and second information including a second image acquired by irradiation of the charged particle beam. (과제) 자동 마이크로 샘플링을 고속화할 수 있는 것이다. (해결 수단) 하전 입자 빔 장치는, 시료로부터 시료편을 자동적으로 제작하는 하전 입자 빔 장치로서, 하전 입자 빔을 조사하는 하전 입자 빔 조사 광학계와, 상기 시료를 재치(載置)하여 이동하는 시료 스테이지와, 상기 시료로부터 분리 및 적출하는 상기 시료편을 유지하여 반송하는 시료편 이설(移設) 수단과, 상기 시료편이 이설되는 시료편 홀더를 유지하는 홀더 고정대와, 제1 대상물의 제1 화상을 포함하는 제1 정보가 학습된 기계 학습 모델과, 상기 하전 입자 빔의 조사에 의해 취득한 제2 화상을 포함하는 제2 정보에 의거하여 제2 대상물에 관한 위치의 제어를 행하는 컴퓨터를 구비하는 하전 입자 빔 장치이다.</description><language>eng ; kor</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ; ELECTRICITY</subject><creationdate>2021</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20210402&amp;DB=EPODOC&amp;CC=KR&amp;NR=20210036256A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20210402&amp;DB=EPODOC&amp;CC=KR&amp;NR=20210036256A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>UEMOTO ATSUSHI</creatorcontrib><creatorcontrib>MURAKI AYANA</creatorcontrib><creatorcontrib>ASAHATA TATSUYA</creatorcontrib><title>CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS</title><description>A charged particle beam apparatus can speed up automatic microsampling. 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(해결 수단) 하전 입자 빔 장치는, 시료로부터 시료편을 자동적으로 제작하는 하전 입자 빔 장치로서, 하전 입자 빔을 조사하는 하전 입자 빔 조사 광학계와, 상기 시료를 재치(載置)하여 이동하는 시료 스테이지와, 상기 시료로부터 분리 및 적출하는 상기 시료편을 유지하여 반송하는 시료편 이설(移設) 수단과, 상기 시료편이 이설되는 시료편 홀더를 유지하는 홀더 고정대와, 제1 대상물의 제1 화상을 포함하는 제1 정보가 학습된 기계 학습 모델과, 상기 하전 입자 빔의 조사에 의해 취득한 제2 화상을 포함하는 제2 정보에 의거하여 제2 대상물에 관한 위치의 제어를 행하는 컴퓨터를 구비하는 하전 입자 빔 장치이다.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</subject><subject>ELECTRICITY</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2021</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZJB39nAMcnd1UQhwDArxdPZxVXBydfRVcAwA8h1DQoN5GFjTEnOKU3mhNDeDsptriLOHbmpBfnxqcUFicmpeakm8d5CRgZGhgYGxmZGpmaMxcaoAQSoiQA</recordid><startdate>20210402</startdate><enddate>20210402</enddate><creator>UEMOTO ATSUSHI</creator><creator>MURAKI AYANA</creator><creator>ASAHATA TATSUYA</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20210402</creationdate><title>CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS</title><author>UEMOTO ATSUSHI ; MURAKI AYANA ; ASAHATA TATSUYA</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20210036256A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2021</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</topic><topic>ELECTRICITY</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>UEMOTO ATSUSHI</creatorcontrib><creatorcontrib>MURAKI AYANA</creatorcontrib><creatorcontrib>ASAHATA TATSUYA</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>UEMOTO ATSUSHI</au><au>MURAKI AYANA</au><au>ASAHATA TATSUYA</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS</title><date>2021-04-02</date><risdate>2021</risdate><abstract>A charged particle beam apparatus can speed up automatic microsampling. 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