잔류 모노머 제거 장치

잔류 모노머를 공정 밖으로 배출하는 것을 방지하면서, 또한 염화바이닐계 수지 함유 슬러리로부터 잔류 모노머를 효율적으로 제거할 수 있는 잔류 모노머 제거 장치. 통 형상의 탑 본체(4)와, 해당 탑 본체 내의 수직 방향으로 마련된 복수 개의 다공판(34)과, 해당 다공판을 각각 바닥면으로 하여 그 위에 형성된 복수 개의 챔버(16∼21)와, 슬러리 도입관(22, 23)과, 상방의 챔버의 다공판으로부터 하방으로 슬러리를 차례로 흘려 내려보내는 유하관(36)과, 탑 본체의 바닥부에 마련된 수증기 도입관(10)과, 탑 본체의 상부에 가스 배출구(11)를 사이에 두고 마련된 응축 장치(6)와, 최하부의 다공판에 마련된 슬러리 배출구(24)와, 다공판의 바로 아래에 온수 분사 링(38)을 가지며, 또한 온수 분사 링을 포함하는 온수 분사 장치에는 효과적으로 수행하기 위한 분사 압력 감시용 압력계(40)와, 그 압력을 조정하기 위한 장치(압력 제어 밸브(32) 또는 인버터 제어 기능이 있는 온수 펌프(8)), 추가로 온수 분사 장치의 온수 분사 링(38) 상부로부터 접속하거나 혹은 링 내에 삽입한 사이트 글래스 세정 노즐(37)을 마련한다. A device for residual-monomer removal by which residual monomers can be efficiently removed from a slurry containing a vinyl-chloride-based resin, while preventing the residual monomers from being discharged from the process. The device for residual-monomer removal comprises: a column body 4; a plurality of perforated plates 34 disposed along the vertical direction within the column body; a plurality of chambers 16-21 formed respectively over the perforated plates serving as bottom surfaces; slurry introduction pipes 22 and 23; flow pipes 36 for causing the slurry to flow downward successively from the perforated plate beneath an upper chamber; a steam introduction pipe 10 disposed in the bottom part of the column body; a condenser 6 disposed over the upper part of the column body, with a gas discharge port 11 disposed therebetween; a slurry discharge port 24 provided to the lowermost perforated plate; and warm-water ejectors disposed just beneath the perforated plates and each including a warm-water ejection ring 38. Each warm-water ejector is provided with: a pressure gauge 40 for monitoring the ejection pressure to effectively conduct the ejection; a device for adjusting the pressure (a pressure control valve 32 or a warm-water pump 8 with inverter control); and a sight-glass-washing nozzle 37 connected to the upper part of the warm-water ejection ring 38 of the warm-water ejector or inserted into the ring.