A fluid handling structure and a lithographic apparatus

본 발명은 유체 핸들링 구조체를 포함한 침지 리소그래피 장치에 관한 것이고, 유체 핸들링 구조체는 침지 유체를 구역에 한정하도록 구성되며: 유체 핸들링 구조체의 표면에 추출기 출구를 갖는 메니스커스 제어 특징부; 및 추출기 출구의 반경방향 바깥쪽에 있고, 각각 출구를 갖는 통로들을 포함하는 가스 나이프 시스템을 포함하며, 통로들은 표면에 복수의 대응하는 제 1 출구들을 갖는 복수의 제 1 통로들, 및 표면에서 제 1 출구들의 반경방향 바깥쪽에 복수의 대응하는 제 2 출구들을 갖는 복수의 제 2 통로들을 포함하며, 표면은 노광 동안 기판의 최상면에 마주하고 실질적으로 평행하며, 제 1 출구 및 제 2 출구는 추출기 출구보다 기판으로부터 더 멀리 떨어져 배치된다. An immersion lithographic apparatus having a fluid handling structure, the fluid handling structure configured to confine immersion fluid to a region and including: a meniscus controlling feature having an extractor exit on a surface of the fluid handling structure; and a gas knife system outwards of the extractor exit and including passages each having an exit, the passages having a plurality of first passages having a plurality of corresponding first exits on the surface, and a plurality of second passages having a plurality of corresponding second exits outwards of the first exits on the surface, wherein the surface faces and is substantially parallel to a top surface of a substrate during exposure, and the first exits and the second exits are arranged at a greater distance from the substrate than the extractor exit.