미세 패턴의 제조방법 및 이를 사용하는 디스플레이 디바이스의 제조방법

[과제] 본 발명은, 액정 디스플레이 디바이스 제조 분야에서 사용하기에 적합한, 한계 해상도 미만의 레지스트 패턴을 효과적으로 제조하는 방법을 제공한다. 구체적으로는, 본 발명은 테이퍼 형상을 갖는 패턴 형상을 유지하면서 한계 해상도 미만의 고정세 패턴을 정밀하게 제조하는 방법을 제공한다. [해결 수단] 알칼리 용해 속도가 100 내지 3,000Å인 노볼락 수지를 포함하는 레지스트 조성물을 기판 상에 코팅하여 레지스트 조성물 층을 형성하는 단계; 상기 레지스트 조성물 층을 노광하는 단계; 상기 레지스트 조성물 층을 현상하여 레지스트...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	IKEDA HIROKAZU, SUZUKI TAKAHIDE, NONAKA TOSHIAKI, TOYAMA YOSHISUKE
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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