POWDER COATING APPARATUS

본 발명은, 불순물의 혼입이 없고, 자유롭게 선택된 원소를 조합한 박막을 성막 가능하고, 얻어진 박막의 조성이 균일한 것을 만족하는 분말 코팅 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명에 관한 분말 코팅 장치는, 배럴(3)과, 배럴 내를 진공 흡인하는 배기 수단(4)과, 배럴 내에 설치된 스퍼터링 장치(2)를 갖고, 배럴은, 주축(C)이 수평 방향을 향하고, 또한, 주축을 중심으로 회전하고, 스퍼터링 장치는, 배럴에 넣어진 분말(7)의 표면에 코팅막을 형성하는 분말 코팅 장치(100)에 있어서, 스퍼터링 장치는 2개 이상의 타겟...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	ITO AMIKO, MARUKO TOMOHIRO, JINUSHI KEIICHIRO
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!