SUBSTRATE RETAINING APPARATUS SYSTEM INCLUDING THE APPARATUS AND METHOD OF USING SAME

Disclosed are a substrate retaining apparatus, a load lock assembly comprising the substrate retaining apparatus, and a system including the substrate retaining apparatus. The substrate retaining apparatus can include at least one sidewall and one or more heat shield plates. One or more of among the at least one sidewall can include a cooling fluid conduit, thereby facilitating cooling of substrates retained by the substrate retaining apparatus. Additionally or alternatively, one or more among the at least one sidewall can include a gas conduit, thereby providing gas to a surface of the retained substrate. 기판 유지 장치, 기판 유지 장치를 포함하는 로드 록 조립체, 및 기판 유지 장치를 포함하는 시스템을 개시한다. 기판 유지 장치는 적어도 하나의 측벽 및 하나 이상의 열 차폐판을 포함할 수 있다. 적어도 하나의 측벽 중 하나 이상은 냉각 유체 도관을 포함할 수 있어서 기판 유지 장치에 의해 유지된 기판의 냉각을 용이하게 한다. 추가적으로 또는 대안적으로, 적어도 하나의 측벽 중 하나 이상은 가스 도관을 포함할 수 있어서, 가스를 유지된 기판의 표면에 가스를 제공한다.