SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND FILTER UNIT USING THE SAME

The present invention relates to a substrate processing apparatus and a filter unit used therein. The substrate processing apparatus, in which a liquid chemical applying process with respect to a substrate to be processed is performed, includes: a liquid chemical processing unit processing liquid chemical in accordance with a predetermined process order; and a filter unit including a filter housing provided on a moving path of the liquid chemical processed in accordance with the liquid chemical processing unit, a filter membrane filtering the liquid chemical supplied to the filter housing, and a heater heating the liquid chemical to a predetermined range of temperature, thereby being possible to shorten time required for stabilizing a facility and a line to which the liquid chemical is supplied and improve processing efficiency. 본 발명은 기판 처리 장치 및 이에 사용되는 필터 유닛에 관한 것으로, 피처리 기판에 대한 약액 도포 공정이 행해지는 기판 처리 장치는, 정해진 공정 순서에 따라 약액을 처리하는 약액 처리 유닛과; 약액 처리 유닛을 따라 처리되는 약액의 이동 경로 상에 구비되는 필터 하우징과, 필터 하우징에 공급된 약액을 필터링하는 필터 멤브레인과, 약액을 정해진 범위의 온도로 가열하는 히터를 포함하는 필터 유닛을; 포함하는 것에 의하여, 약액이 공급되는 설비 및 라인을 안정화하는 소요되는 시간을 단축하고 처리 효율을 높이는 유리한 효과를 얻을 수 있다.