크롬산 양극 산화에서 알루미늄 표면을 마스킹하기 위한 테이프 및 사용 방법

테이프는, 2개의 주 표면을 갖는 가요성 배킹 층 - 배킹 층은 두께가 64 마이크로미터 초과 200 마이크로미터 이하이며, 배킹 층의 하나의 주 표면은 프라이밍된 표면을 포함함 - 과; 배킹 층의 프라이밍된 표면 상에 배치된 고무계 감압 접착제 층 - 감압 접착제 층은 두께가 7.6 마이크로미터 이상 (및 바람직하게는 25 마이크로미터 이하)임 - 을 포함하며; 테이프는, 알루미늄 기재 상에 배치될 때, 실시예 섹션에 기재된 박리 접착 강도 시험에 따른 20 oz/in(219 N/m) 미만의 박리 접착력, 및 실시예 섹션에 기재된 크롬산 양극 산화 - 누설 거리 시험에 따른 762 마이크로미터 미만의 누설 거리를 나타낸다. 알루미늄 표면의 양극 산화 방법은, 알루미늄 표면을 갖는 기재를 제공하는 단계; 알루미늄 표면을 마스킹하여 마스킹된 기재를 형성하도록 본 명세서에 기재된 바와 같은 테이프를 적용하는 단계; 및 산화알루미늄을 형성하기에 효과적인 조건 하에서 크롬산을 포함하는 전해질 용액에 마스킹된 기재를 노출시키는 단계를 포함한다. A tape includes: a flexible backing layer having two major surfaces, wherein the backing layer has a thickness of greater than 64 micrometers and up to 200 micrometers, and one major surface of the backing layer includes a primed surface; and a rubber-based pressure sensitive adhesive layer disposed on the primed surface of the backing layer, wherein the pressure sensitive adhesive layer has a thickness of at least 7.6 micrometers (and preferably up to 25 micrometers); wherein, when disposed on an aluminum substrate, the tape displays a peel adhesion of less than 20 oz/in (219 N/m) according to a Peel Adhesion Strength Test described in the Examples Section, and a leakage distance of less than 762 micrometers according to a Chromic Acid Anodization-Leakage Distance Test described in the Examples Section. A method of anodizing an aluminum surface includes: providing a substrate having an aluminum surface; applying a tape as described herein to mask the aluminum surface and form a masked substrate; and exposing the masked substrate to an electrolyte solution including chromic acid under conditions effective to form aluminum oxide.