희토류 질화물 구조체와 소자 및 패시베이션 캐핑 제거방법

본 발명은 희토류 질화물 재료, 및 희토류 질화물 재료를 패시베이션하기 위한 제거 가능한 캐핑을 포함하는 구조체 또는 소자에 관한 것이다. The present invention concerns a structure or device comprising a rare earth nitride material, and a removable capping for passivating the rare earth nitride material....

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Hauptverfasser: RUCK BENJAMIN JOHN, TRODAHL HARRY JOSEPH, PENG CHEONG CHAN JAY ROSS, NATALI FRANCK
Format: Patent
Sprache:kor
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Zusammenfassung:본 발명은 희토류 질화물 재료, 및 희토류 질화물 재료를 패시베이션하기 위한 제거 가능한 캐핑을 포함하는 구조체 또는 소자에 관한 것이다. The present invention concerns a structure or device comprising a rare earth nitride material, and a removable capping for passivating the rare earth nitride material.