Deposition apparatus

The present invention minimizes an occurrence of a clogging phenomenon in a nozzle. The deposition device according to an embodiment of the present invention comprises: a crucible in which a space for accommodating a deposition raw material is formed; a heater unit disposed outside the crucible for heating the crucible to evaporate the deposition raw material; a plurality of nozzles for supplying deposition material evaporated from the deposition raw material to a material to be deposited; and a heat pipe disposed between the heater unit and the plurality of nozzles and containing a heat transfer fluid therein. 본 발명은 노즐에서의 클로깅 현상의 발생을 최소화하기 위한 것으로, 본 발명의 실시 예에 따른 증착 장치는 증착 원료가 수용되는 공간이 형성된 도가니, 도가니의 외부에 배치되어 증착 원료가 증발되게 도가니를 가열하는 히터 유닛, 증착 원료에서 증발된 증착 물질을 피증착물로 공급하는 복수개의 노즐 및 히터 유닛과 복수개의 노즐 사이에 배치되고 내부에 열 전달 유체가 수용된 히트 파이프를 포함할 수 있다.