EUV 광원용 타겟 물질을 정제하는 방법 및 장치

EUV 광원용 타겟 물질을 정제하기 위한 탈산 시스템은 중심 영역 및 이 중심을 균일하게 가열하기 위한 가열기를 갖는 노를 포함한다. 베슬이 노의 중심 영역에 삽입되고, 도가니는 베슬 내에 배치된다. 폐쇄 장치는 진공 및 압력 능력을 갖는 시일을 형성하기 위해 베슬의 개방 단부를 덮는다. 이 시스템은 또한 가스 유입 튜브, 가스 배출 튜브, 및 진공 포트를 포함한다. 가스 공급 네트워크는 가스 유입 튜브의 단부와 유체 연통 상태로 연결되고, 가스 공급 네트워크는 가스 배출 튜브의 단부와 유체 연통 상태로 연결된다. 진공 네트워크는 진공 포트의 일 단부와 유체 연통 상태로 연결된다. 또한 타겟 물질을 정제하는 방법 및 장치가 기재되어 있다. A deoxidation system for purifying target material for an EUV light source includes a furnace having a central region and a heater for heating the central region in a uniform manner. A vessel is inserted in the central region of the furnace, and a crucible is disposed within the vessel. A closure device covers an open end of the vessel to form a seal having vacuum and pressure capability. The system also includes a gas input tube, a gas exhaust tube, and a vacuum port. A gas supply network is coupled in flow communication with an end of the gas input tube and a gas supply network is coupled in flow communication with an end of the gas exhaust tube. A vacuum network is coupled in flow communication with one end of the vacuum port. A method and apparatus for purifying target material also are described.