정화제 조성물 및 이를 포함하는 폴리올레핀 조성물

본 발명은 1,3:2,4-비스-O-[(3,4-다이클로로페닐)메틸렌]-D-글루시톨 및 소량의 잔류성 산을 포함하는 첨가제 조성물에 관한 것이다. 폴리올레핀 조성물은 폴리올레핀 중합체 및 전술된 첨가제 조성물을 포함한다. An additive composition comprises 1,3:2,4-bis-O-[(3,4-dichlorophenyl)methylene]-D-glucitol and a low amount of residual acid. A polyolefin composition comprises a polyolefin poly...

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1. Verfasser: MEHL NATHAN A
Format: Patent
Sprache:kor
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