FOCUSED ION BEAM APPARATUS

An objective of the present invention is to provide a focused ion beam apparatus capable of adjusting a tip of an emitter tip with high accuracy without degrading focused characteristics or alignment characteristics of a FIB optical system. The focused ion beam apparatus comprises: a vacuum container; an emitter tip disposed in the vacuum container and having a sharp tip; a gas field ion source; a focused lens; a first deflector; a first aperture; an objective lens focusing an ion beam passing through the first deflector; and a sample stage. A signal generating source reacting in a point image region with respect to the ion beam is formed between an optical system having at least the focused lens, the first aperture, the first deflector, and the objective lens and the sample stage. A signal outputted from the signal generating source and scanning of the ion beam by the first deflector are associated with each other to generate a scanning field ion microscope image of the emitter tip. [과제] FIB 광학계의 집속 특성이나 얼라이먼트 특성을 저하시키지 않고, 이미터 팁의 선단의 조정을 고정밀도로 행하는 것이 가능한 집속 이온 빔 장치를 제공한다. [해결 수단] 진공 용기와, 상기 진공 용기 내에 배치되고, 선단이 첨예화된 이미터 팁과, 가스 전계 전리 이온원과, 집속 렌즈와, 제1 편향기와, 제1 애퍼처와, 상기 제1 편향기를 통과한 상기 이온 빔을 집속시키는 대물렌즈와, 시료 스테이지를 구비한 집속 이온 빔 장치로서, 집속 렌즈, 제1 애퍼처, 제1 편향기 및 대물렌즈를 적어도 갖는 광학계와, 시료 스테이지의 사이에, 이온 빔에 대해서 점상 영역에서 반응하는 신호 발생원을 형성하고, 신호 발생원으로부터 출력되는 신호와, 제1 편향기에 의한 이온 빔의 주사를 대응시켜, 이미터 팁의 주사 전계 이온 현미경상을 생성한다.