기판 사전 정렬 방법

본 발명은 기판을 사전 정렬하는 방법에 관한 것으로, 1) 표면에 복수 개의 표식이 환상으로 배열된 기판을 제공하고, 상기 복수 개의 표식 각각은 제 1 방향으로 연장되는 적어도 하나의 제 1 스트라이프 및 제 2 방향으로 연장되는 적어도 하나의 제 2 스트라이프로 구성되는 단계, 2) 상기 기판의 중심을 기판 이송 스테이지상의 주어진 지점과 정렬하는 단계, 3) 상기 기판의 표면상의 복수개의 표식으로부터 선택된 표식에 광을 조사하여 상기 선택된 표식의 이미지를 획득하는 단계, 4) 상기 제 1 방향에 해당하는 제 1 투사 데이터 및 상기 제 2 방향에 해당하는 제 2 투사 데이터를 얻기 위해 상기 이미지를 처리하는 단계, 5) 상기 제 1 투사 데이터로부터 상기 선택된 표식의 적어도 제 1 스트라이프에 해당하는 제 1 피크값 집합을 식별하고, 상기 제 2 투사 데이터로부터 상기 선택된 표식의 적어도 제 2 스트라이프에 해당하는 제 2 피크값 집합을 식별하는 단계, 6) 단계 5)에서 식별된 제 1 피크값 집합과 제 2 피크값 집합으로부터, a) 상기 적어도 하나의 제 1 스트라이프 개수와 상기 적어도 하나의 제 2 스트라이프 개수에 해당하고 b) 진짜라고 간주되는 제 1 피크값들과 제 2 피크값들을 선택하고 단계 7)로 진행하며, 그렇지 않으면 다음 표식을 선택 표식으로서 선택하고, 상기 선택된 표식의 이미지를 얻고, 단계 4)로 복귀하는 단계, 7) 단계 6)에서 선택한 제 1 및 제 2 피크값들에 근거하여 기판 이송 스테이지에 대한 상기 선택된 표식의 현재 위치를 산출하는 단계, 및 8) 상기 기판이 바람직한 회전 각도로 배열될 때까지, 단계 7)에서 산출한, 기판 이송 스테이지에 대한 상기 선택된 표식의 현재 위치, 기판상의 상기 선택된 표식의 상대 위치, 그리고 기판 이송 스테이지에 대한 상기 기판의 바람직한 회전 각도에 따라 상기 기판을 회전하는 단계를 포함한다. A method for pre-aligning a substrate includes the steps of: 1) providing a substrate having a plurality of marks are arranged circumferentially on a surface thereof, wherein each of the plurality of marks consists of at least one first stripe extending in a first direction and at least one second stripe extending in a first direction; 2) aligning a center of the substrate with a given point on a substrate carrier stage; 3) illuminating a mark selected from the plurality of marks on the surface of the substrate with light and obtaining an image of the selected mark; 4) processing the image to obtain first projection data corresponding to the first direction and second projection data corresponding to the second direction; 5) identifying a set of first peak values corresponding to the at least one first stripe of the selected mark from the first projection data and a set of second peak values corresponding to the at least one second stripe of the selected mark from the second projection data; 6) selecting first peak values and second peak values that a) correspond to numbers of the at least one first stripe and the at least one second stripe and b) are deemed authentic, from the set of first peak values and the set of second peak values identified in step 5) and proceeding to step 7); otherwise selecting a next mark as the selected mark and returning to step 4); 7) calculating a current position of the selected mark relative to the substrate carrier stage based on the first and second peak values selected in step 6); and 8)