2 TWO STEP PHOTORESIST COMPOSITIONS AND METHODS

본 발명은 신규한 2-단계 포토레지스트 조성물 및 공정에 관한 것이다. 공정은 1 단계에서 산-분해성기를 제거하는 단계 및 2 단계에서 잔류 물질을 그 자신 또는 첨가된 가교 시스템과 가교하는 단계를 포함한다. 레지스트 촉매 사슬에 다단계 경로를 포함하면 저용량의 조사를 받아, 빌트인(built-in) 용량 의존 ?처-유사체로서 효과적으로 작용하여 화학 구배를 향상시켜 해상도를 향상시키는 영역에서 화학 구배를 증가시킨다. 포토레지스트 조성물 및 방법은 예를 들면, 자외선 조사, 초극자외선 조사, 극자외선 조사, X-선 및 하전 입자...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	LADA TOM, FROMMHOLD ANDREAS, BROWN ALAN, ROBINSON ALEX PHILIP GRAHAM
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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