Vaporizer and thin film deposition apparatus having the same

The present invention provides a vaporizer comprising: a first body having an upper end narrowed in the height direction; a second body having a cavity in which the first body is accommodated; and a mixing chamber formed between the first body and the second body. The second body includes: a carrier gas injection pathway which is connected to a carrier gas inlet formed in the upper part of the mixing chamber and in which a carrier gas injected into the mixing chamber moves; a raw material injection pathway which is connected to a raw material inlet formed in the mixing chamber and in which a liquid raw material injected into the mixing chamber moves; and a discharging pathway which is connected to an outlet formed at the lower part of the mixing chamber and in which a mixed fluid obtained by mixing the carrier gas discharged from the mixing chamber and the raw material moves. 본 발명의 기술적 사상은 높이 방향으로 좁아지는 상단부를 가지는 제1 바디, 상기 제1 바디가 수용되는 캐비티가 형성된 제2 바디, 및 상기 제1 바디와 상기 제2 바디에 사이에 형성된 혼합실을 포함하며, 상기 제2 바디는, 상기 혼합실의 상부에 형성된 캐리어 가스 주입구와 연결되고, 상기 혼합실로 주입되는 캐리어 가스가 이동하는 캐리어 가스 주입 경로와, 상기 혼합실에 형성된 원료 주입구와 연결되고, 상기 혼합실로 주입되는 액상의 원료가 이동하는 원료 주입 경로와, 상기 혼합실의 하부에 형성된 배출구와 연결되고, 상기 혼합실로부터 배출된 상기 캐리어 가스와 상기 원료가 혼합된 혼합 유체가 이동하는 배출 경로를 가지는 것을 특징으로 하는 기화기를 제공한다.