method for manufacturing of metal nanostructure and substrate for surface enhanced raman scattering including the metal nanostructure by manufacturing the same method

본 발명은 금속 나노구조체의 제조방법에 관한 것으로서, 상세하게는 다공성 나노 템플레이트를 기판으로 준비하는 제1단계; 상기 기판 상에 표면 플라즈몬 공명(Surface Plasmon Resonance: SPR)을 나타내는 금속을 증착시키는 제2단계; 및 상기 제2단계 후, 기판을 제거함으로써 금속 나노구조체를 수득하는 제3단계;를 포함하고, 상기 다공성 나노 템플레이트는, 알루미늄 박막층 및 상기 박막층 상부에 형성되는 다공성 양극산화 알루미늄 피막층으로 이루어진 통상의 양극산화 알루미늄(Anodized Aluminum Oxide...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	PARK, SEONG KYU, LEE, DONG YUN, JEON, SANG HEON
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES MEASURING NANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS,MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES ASDISCRETE UNITS NANOTECHNOLOGY PERFORMING OPERATIONS PHYSICS SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES TESTING TRANSPORTING
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 금속 나노구조체의 제조방법에 관한 것으로서, 상세하게는 다공성 나노 템플레이트를 기판으로 준비하는 제1단계; 상기 기판 상에 표면 플라즈몬 공명(Surface Plasmon Resonance: SPR)을 나타내는 금속을 증착시키는 제2단계; 및 상기 제2단계 후, 기판을 제거함으로써 금속 나노구조체를 수득하는 제3단계;를 포함하고, 상기 다공성 나노 템플레이트는, 알루미늄 박막층 및 상기 박막층 상부에 형성되는 다공성 양극산화 알루미늄 피막층으로 이루어진 통상의 양극산화 알루미늄(Anodized Aluminum Oxide : AAO) 템플레이트이거나, 상기 양극산화 알루미늄 템플레이트를 에칭하여 양극산화 알루미늄 피막층 또는 알루미늄 박막층이 제거된 템플레이트인 것을 특징으로 하는, 금속 나노구조체의 제조방법에 관한 것이다.