NEGATIVE-TONE RESIST COMPOSITIONS AND MULTIFUNCTIONAL POLYMERS THEREIN

자유 광산-발생기, 및 광산-발생 모이어티에 공유 결합된 다기능 폴리머를 함유하고, 가교제들을 포함하지 않는, 네거티브-톤 레지스트 조성물이 제공된다. 상기 레지스트 조성물과 함께 유용한 다기능 폴리머들이 또한 제공되고, 본 발명의 조성물들 및 폴리머들을 이용하여 기판상에 레지스트 이미지를 생성하는 프로세스도 제공된다. A negative-tone resist composition is provided that contains a free photoacid generator and a multifunctional polymer co...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SUNDBERG LINDA KARIN, SANDERS DANIEL PAUL, KAWAI YOSHIO, DOMON DAISUKE, SOORIYAKUMARAN RATNAM, BOZANO LUISA DOMINICA, MASUNAGA KEIICHI, SANCHEZ MARTHA INEZ, WATANABE SATOSHI
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	자유 광산-발생기, 및 광산-발생 모이어티에 공유 결합된 다기능 폴리머를 함유하고, 가교제들을 포함하지 않는, 네거티브-톤 레지스트 조성물이 제공된다. 상기 레지스트 조성물과 함께 유용한 다기능 폴리머들이 또한 제공되고, 본 발명의 조성물들 및 폴리머들을 이용하여 기판상에 레지스트 이미지를 생성하는 프로세스도 제공된다. A negative-tone resist composition is provided that contains a free photoacid generator and a multifunctional polymer covalently bound to a photoacid-generating moiety, where the composition is substantially free of cross-linking agents. Multifunctional polymers useful in conjunction with the resist composition are also provided, as is a process for generating a resist image on a substrate using the present compositions and polymers.