CONFOCAL LINE INSPECTION OPTICAL SYSTEM
라인 스캔 웨이퍼 검사 시스템은, 사이드로브를 제거하고 스캐닝 방향을 따른 해상도를 향상시키기 위해서, 공초점 슬릿 애퍼처 필터를 포함한다. 슬릿 애퍼처 필터와 연관된 위치 검출기가 슬릿 애퍼처에 대한 조사 라인 이미지 위치를 모니터링하고 교정하여 이미지 위치 변동을 용인 가능한 한계 내에서 유지한다. 각각의 검출기는 라인 위치를 측정하고, 이어서 피드백 루프에서 수집 경로 내의 광학적, 기계적, 및 전자적 부품들을 조정하기 위해서 라인 위치 신호를 이용한다. 피드백 루프를 실행 시간 보정 프로세스에서 또는 검사 중에 이용하여 안정...
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| Sprache: | eng ; kor |
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| creator | KHARISOV ANDREY WANG MARK S KIRK CHRIS |
| description | 라인 스캔 웨이퍼 검사 시스템은, 사이드로브를 제거하고 스캐닝 방향을 따른 해상도를 향상시키기 위해서, 공초점 슬릿 애퍼처 필터를 포함한다. 슬릿 애퍼처 필터와 연관된 위치 검출기가 슬릿 애퍼처에 대한 조사 라인 이미지 위치를 모니터링하고 교정하여 이미지 위치 변동을 용인 가능한 한계 내에서 유지한다. 각각의 검출기는 라인 위치를 측정하고, 이어서 피드백 루프에서 수집 경로 내의 광학적, 기계적, 및 전자적 부품들을 조정하기 위해서 라인 위치 신호를 이용한다. 피드백 루프를 실행 시간 보정 프로세스에서 또는 검사 중에 이용하여 안정성을 향상시킬 수 있다.
A line scan wafer inspection system includes a confocal slit aperture filter to remove sidelobes and enhance resolution in the scanning direction. A position detector associated with the slit aperture filter monitors and corrects illumination line image positions relative to the slit aperture to keep image position variations within tolerable limits. Each detector measures a line position and then uses the line position signal to adjust optical, mechanical, and electronic components in the collection path in a feedback loop. The feedback loop may be employed in a runtime calibration process or during inspection to enhance stability. |
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A line scan wafer inspection system includes a confocal slit aperture filter to remove sidelobes and enhance resolution in the scanning direction. A position detector associated with the slit aperture filter monitors and corrects illumination line image positions relative to the slit aperture to keep image position variations within tolerable limits. Each detector measures a line position and then uses the line position signal to adjust optical, mechanical, and electronic components in the collection path in a feedback loop. The feedback loop may be employed in a runtime calibration process or during inspection to enhance stability.</description><language>eng ; kor</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES ; MEASURING ; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS ; OPTICS ; PHYSICS ; SEMICONDUCTOR DEVICES ; TESTING</subject><creationdate>2016</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20161221&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20160146913A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76290</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20161221&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20160146913A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>KHARISOV ANDREY</creatorcontrib><creatorcontrib>WANG MARK S</creatorcontrib><creatorcontrib>KIRK CHRIS</creatorcontrib><title>CONFOCAL LINE INSPECTION OPTICAL SYSTEM</title><description>라인 스캔 웨이퍼 검사 시스템은, 사이드로브를 제거하고 스캐닝 방향을 따른 해상도를 향상시키기 위해서, 공초점 슬릿 애퍼처 필터를 포함한다. 슬릿 애퍼처 필터와 연관된 위치 검출기가 슬릿 애퍼처에 대한 조사 라인 이미지 위치를 모니터링하고 교정하여 이미지 위치 변동을 용인 가능한 한계 내에서 유지한다. 각각의 검출기는 라인 위치를 측정하고, 이어서 피드백 루프에서 수집 경로 내의 광학적, 기계적, 및 전자적 부품들을 조정하기 위해서 라인 위치 신호를 이용한다. 피드백 루프를 실행 시간 보정 프로세스에서 또는 검사 중에 이용하여 안정성을 향상시킬 수 있다.
A line scan wafer inspection system includes a confocal slit aperture filter to remove sidelobes and enhance resolution in the scanning direction. A position detector associated with the slit aperture filter monitors and corrects illumination line image positions relative to the slit aperture to keep image position variations within tolerable limits. Each detector measures a line position and then uses the line position signal to adjust optical, mechanical, and electronic components in the collection path in a feedback loop. The feedback loop may be employed in a runtime calibration process or during inspection to enhance stability.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</subject><subject>MEASURING</subject><subject>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</subject><subject>OPTICS</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><subject>TESTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2016</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZFB39vdz83d29FHw8fRzVfD0Cw5wdQ7x9PdT8A8I8QSJB0cGh7j68jCwpiXmFKfyQmluBmU31xBnD93Ugvz41OKCxOTUvNSSeO8gIwNDMwNDEzNLQ2NHY-JUAQB67CTG</recordid><startdate>20161221</startdate><enddate>20161221</enddate><creator>KHARISOV ANDREY</creator><creator>WANG MARK S</creator><creator>KIRK CHRIS</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20161221</creationdate><title>CONFOCAL LINE INSPECTION OPTICAL SYSTEM</title><author>KHARISOV ANDREY ; WANG MARK S ; KIRK CHRIS</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20160146913A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2016</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</topic><topic>MEASURING</topic><topic>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</topic><topic>OPTICS</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><topic>TESTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>KHARISOV ANDREY</creatorcontrib><creatorcontrib>WANG MARK S</creatorcontrib><creatorcontrib>KIRK CHRIS</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>KHARISOV ANDREY</au><au>WANG MARK S</au><au>KIRK CHRIS</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>CONFOCAL LINE INSPECTION OPTICAL SYSTEM</title><date>2016-12-21</date><risdate>2016</risdate><abstract>라인 스캔 웨이퍼 검사 시스템은, 사이드로브를 제거하고 스캐닝 방향을 따른 해상도를 향상시키기 위해서, 공초점 슬릿 애퍼처 필터를 포함한다. 슬릿 애퍼처 필터와 연관된 위치 검출기가 슬릿 애퍼처에 대한 조사 라인 이미지 위치를 모니터링하고 교정하여 이미지 위치 변동을 용인 가능한 한계 내에서 유지한다. 각각의 검출기는 라인 위치를 측정하고, 이어서 피드백 루프에서 수집 경로 내의 광학적, 기계적, 및 전자적 부품들을 조정하기 위해서 라인 위치 신호를 이용한다. 피드백 루프를 실행 시간 보정 프로세스에서 또는 검사 중에 이용하여 안정성을 향상시킬 수 있다.
A line scan wafer inspection system includes a confocal slit aperture filter to remove sidelobes and enhance resolution in the scanning direction. A position detector associated with the slit aperture filter monitors and corrects illumination line image positions relative to the slit aperture to keep image position variations within tolerable limits. Each detector measures a line position and then uses the line position signal to adjust optical, mechanical, and electronic components in the collection path in a feedback loop. The feedback loop may be employed in a runtime calibration process or during inspection to enhance stability.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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