IMPROVED MULTI-AXIS DIFFRACTION GRATING

감광성 에멀전/포토레지스트가 도포된 유리 또는 삭마 가능한 기재와 같은 광감성 표면에 단일 광원으로부터의 가간섭성 광의 세 개 이상의 빔을 비추고, 회절 격자 패턴을 광감성 표면에 맵핑함으로써, 회절 격자와 같은 광 간섭 패턴이 광감성 표면에 통합된다. 광 간섭 패턴의 맵핑은 레이저 광 또는 적합한 광 스펙트럼을 생성하는 다른 광원과 같은 세 개 이상의 광 빔들의 간섭에 의해 생성된다. 맵핑된 광감성 표면은 엠보싱 심을 생성하기 위하여 사용될 수 있다. 엠보싱 심은 그후 필름 또는 종이를 엠보싱하기 위하여 사용될 수 있다. 엠보싱된...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	SPOTO LOUIS M, RANDAZZO DEAN J, DESCHNER MATTHEW J
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS HOLOGRAPHY PHOTOGRAPHY PHYSICS
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