IMPROVED MULTI-AXIS DIFFRACTION GRATING

감광성 에멀전/포토레지스트가 도포된 유리 또는 삭마 가능한 기재와 같은 광감성 표면에 단일 광원으로부터의 가간섭성 광의 세 개 이상의 빔을 비추고, 회절 격자 패턴을 광감성 표면에 맵핑함으로써, 회절 격자와 같은 광 간섭 패턴이 광감성 표면에 통합된다. 광 간섭 패턴의 맵핑은 레이저 광 또는 적합한 광 스펙트럼을 생성하는 다른 광원과 같은 세 개 이상의 광 빔들의 간섭에 의해 생성된다. 맵핑된 광감성 표면은 엠보싱 심을 생성하기 위하여 사용될 수 있다. 엠보싱 심은 그후 필름 또는 종이를 엠보싱하기 위하여 사용될 수 있다. 엠보싱된 필름/종이는 금속화되고 기재상에 적층되어, 백색 광에 노출되었을 때 다양한 시청 각도에서 이동 패턴을 갖는 제품을 생성할 수 있다. An enhanced optical interference pattern, such as a diffraction grating, is incorporated into a photodefineable surface by shining three or more beams of coherent light from a single source at a photodefinable surface, such as a photosensitive emulsion/photoresist covered glass or an ablatable substrate and mapping the diffraction grating pattern to the photodefinable surface. Mapping of the optical interference pattern is created by interference of three or more light beams, such as laser light or other light sources producing a suitable spectrum of light. The mapped photodefinable surface can be used to create embossing shims. The embossing shim can then be used to emboss film or paper. The embossed film/paper can be metalized and laminated onto a substrate to create a product that has shifting patterns at a variety of viewing angles when exposed to white light.