ROTATING DISK REACTOR WITH FERROFLUID SEAL FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

화학적 기상 증착을 위한 회전 디스크 리액터는, 진공 챔버, 및 모터 샤프트를 진공 챔버 내로 통과시키는, 상측 페로플루이드 밀봉부와 하측 페로플루이드 밀봉부를 포함하는 페로플루이드 피드스루를 포함한다. 모터는, 모터 샤프트에 결합되고, 상측 및 하측 페로플루이드 밀봉부들 사이의 대기 영역에 위치한다. 턴테이블은, 진공 챔버 내에 위치하며, 모터가 턴테이블을 소망 회전 속도에서 회전시키도록 모터 샤프트에 결합된다. 유전 지지부는, 턴테이블이 샤프트에 의해 구동되면 유전 지지부를 회전시키도록 턴테이블에 결합된다. 기판 캐리어는 화학적 기상 증착 처리를 위해 진공 챔버 내에서 유전 지지부 상에 위치한다. 기판 캐리어의 온도를 화학적 기상 증착을 위한 소망 온도로 제어하는 가열기는 기판 캐리어에 근접하여 위치한다. A rotating disk reactor for chemical vapor deposition includes a vacuum chamber and a ferrofluid feedthrough comprising an upper and a lower ferrofluid seal that passes a motor shaft into the vacuum chamber. A motor is coupled to the motor shaft and is positioned in an atmospheric region between the upper and the lower ferrofluid seal. A turntable is positioned in the vacuum chamber and is coupled to the motor shaft so that the motor rotates the turntable at a desired rotation rate. A dielectric support is coupled to the turntable so that the turntable rotates the dielectric support when driven by the shaft. A substrate carrier is positioned on the dielectric support in the vacuum chamber for chemical vapor deposition processing. A heater is positioned proximate to the substrate carrier that controls the temperature of the substrate carrier to a desired temperature for chemical vapor deposition.