METHOD OF AND APPARATUS FOR SUPPLY AND RECOVERY OF TARGET MATERIAL

타겟 재료 저장소를 갖는 액적 생성기를 포함할 수 있는 EUV 광원 타겟 재료 핸들링 시스템이 개시되고, 타겟 저장소에는 액적 생성기의 노즐 부분이 소정 온도로 유지되는 동안 타겟 재료가 보충될 수 있다. 사용 타겟 재료를 선택적으로 배출하기 위한 시스템 또한 개시된다. An EUV light source target material handling system is disclosed which may comprise a droplet generator having a target material reservoir in which...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	VASCHENKO GEORGIY O, BAUMGART PETER M, SYRPIS THEODOSIOS, SESHAGIRI SANJEEV, GACUTAN JEFFREY, ALGOTS J. MARTIN, RAJYAGURU CHIRAG
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY X-RAY TECHNIQUE
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Beschreibung
Zusammenfassung:	타겟 재료 저장소를 갖는 액적 생성기를 포함할 수 있는 EUV 광원 타겟 재료 핸들링 시스템이 개시되고, 타겟 저장소에는 액적 생성기의 노즐 부분이 소정 온도로 유지되는 동안 타겟 재료가 보충될 수 있다. 사용 타겟 재료를 선택적으로 배출하기 위한 시스템 또한 개시된다. An EUV light source target material handling system is disclosed which may comprise a droplet generator having a target material reservoir in which the target material may be replenished while a nozzle portion of the droplet generator is maintained at temperature. Also disclosed is a system for selectively draining spent target material.