EXPOSURE OPTICS, EXPOSURE HEAD, AND EXPOSURE DEVICE

결상 광학계의 수차를 보정하는 마이크로 렌즈 어레이를 구비한 노광 광학계, 노광 헤드 및 노광 장치를 제공한다. 광원으로부터의 광(B)을 변조하는 화소부(74)가 배열된 공간 광변조 소자(34)와, 상기 공간 광변조 소자(34)에서 변조된 광을 집광하는 마이크로 렌즈(64a)가 평면 상에 배열된 마이크로 렌즈 어레이(64)와, 상기 공간 광변조 소자(34)에 의해 변조된 광(B)을 상기 마이크로 렌즈 어레이(64)에 결상하는 제 1 결상 광학계(52)와, 상기 마이크로 렌즈 어레이(64)에서 집광된 광(B)을 감광 재료(P) 상에 결상하는 제 2 결상 광학계(58)를 구비하고, 상기 마이크로 렌즈 어레이(64)는 상기 제 2 결상 광학계(58)의 광축(58c)으로부터의 거리에 따라서 형상이 다른 복수 종류의 마이크로 렌즈(64a)가 배열된 노광 광학계(100). Provided are: exposure optics provided with a microlens array that corrects aberrations in focusing optics; an exposure head; and an exposure device. These exposure optics (100) are provided with the following: a spatial light-modulation element (34) containing an array of pixel units (74) that modulate light (B) from a light source; a microlens array (64) in which microlenses (64a) that concentrate the light modulated by the spatial light-modulation element (34) are arrayed in a single plane; first focusing optics (52) that focus the light (B) modulated by the spatial light-modulation element (34) onto the microlens array (64); and second focusing optics (58) that focus the light (B) concentrated by the microlens array (64) onto a photosensitive material (P). The microlens array (64) contains a plurality of types of microlenses (64a) that have different shapes in accordance with the distances thereof from the optical axis (58c) of the second focusing optics (58).