METHOD OF COATING A SUBSTRATE WITH A CATALYST COMPONENT

촉매 성분을 포함하는 액체로 서브스트레이트를 코팅하는 방법으로서, 상기 서브스트레이트는 복수의 채널을 포함하고 있고, 상기 방법은 (a) 상기 서브스트레이트를 수직으로 유지하는 단계; (b) 상기 서브스트레이트의 하부 단부에 있는 채널의 개방 단부를 통하여 상기 액체를 상기 서브스트레이트로 유입시키는 단계; 그리고 (c) 상기 서브스트레이트의 하부 단부가 상기 액체로 부분적으로 채워진 후, 상기 액체를 상기 서브스트레이트로 유입시키면서 상기 서브스트레이트의 상부 단부에 있는 채널의 개방 단부에 진공을 작용시키는 단계를 포함하고 있다...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	FORTNER R. BRADFORD, ROBERTS DALE ALBERT, BORTZ ANDREW MICHAEL, ROSE RICHARD PETER, TROLAND DANIEL L
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL BLASTING CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY ENGINE PLANTS IN GENERAL GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNALCOMBUSTION ENGINES GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES ORENGINES IN GENERAL HEATING LIGHTING MACHINES OR ENGINES IN GENERAL MECHANICAL ENGINEERING PERFORMING OPERATIONS PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL PROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL STEAM ENGINES THEIR RELEVANT APPARATUS TRANSPORTING WEAPONS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	촉매 성분을 포함하는 액체로 서브스트레이트를 코팅하는 방법으로서, 상기 서브스트레이트는 복수의 채널을 포함하고 있고, 상기 방법은 (a) 상기 서브스트레이트를 수직으로 유지하는 단계; (b) 상기 서브스트레이트의 하부 단부에 있는 채널의 개방 단부를 통하여 상기 액체를 상기 서브스트레이트로 유입시키는 단계; 그리고 (c) 상기 서브스트레이트의 하부 단부가 상기 액체로 부분적으로 채워진 후, 상기 액체를 상기 서브스트레이트로 유입시키면서 상기 서브스트레이트의 상부 단부에 있는 채널의 개방 단부에 진공을 작용시키는 단계를 포함하고 있다. An apparatus for coating a substrate with a liquid comprising a catalyst component, which substrate comprises a plurality of channels, wherein the apparatus comprises: (a) means for holding the substrate vertically; (b) means for introducing the liquid into the substrate through the open ends of the channels at a lower end of the substrate; (c) means for triggering a vacuum when the lower end of the substrate has been part-filled with the liquid; and (d) means for applying a vacuum to the open ends of the channels at an upper end of the substrate.