METHOD FOR PREVENTING AGGLOMERATION OF CHARGED COLLOIDS WITHOUT LOSS OF SURFACE ACTIVITY

슬러리의 응집을 막는 한편 표면 활성을 유지하기 위해 수성(aqueous) 현탁액 내의 폴리싱 슬러리를 화학적으로 안정화시키는 방법이 개시된다. 이 방법은 건조 중의 비가역적인 입자 응집의 형성을 방지하고 입자 크기 분포에 대한 영향이 없이 그 후 건조된 입자들의 재부유를 가능하게 한다. 상기 안정화 방법은 현탁액 pH 조건에서의 상기 현탁액 표면 전하, 상기 현탁액 조건에서의 콜로이드에 대한 유사 전하를 갖는 대전된 종의 첨가, 및 현탁액 내의 상기 대전된 종 및 다른 이온의 농도의 제어에 관한 지식을 기초로 조정될 수 있다. T...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	STEELE WILLIAM A, DYLLA SPEARS REBECCA J, MILLER PHILIP E, SURATWALA TAYYAB I, WONG LANA L, FEIT MICHAEL D
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	ADHESIVES CHEMISTRY DYES MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS PAINTS POLISHES POLISHING COMPOSITIONS OTHER THAN FRENCH POLISH SKI WAXES
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