METHOD FOR FORMING POLY PLUG OF THIN FILM TRANSISTOR
PURPOSE: A method for forming a poly plug of a thin film transistor is provided to enhance reliability of the thin film transistor by reducing a step difference without a loss of a poly plug. CONSTITUTION: An interlayer dielectric(32) is deposited on a substrate(31). A contact hole is formed by etch...
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Hauptverfasser: | , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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