IC IC IC ICMETHOD FOR PROCESSING SURFACE OF IC CHIP OF IC CARD USING LASET TECHNOLOGY AND IC CHIP OF IC CARD PROCESSED BY THE METHOD
본 발명은 IC카드용 IC칩의 표면에 레이저를 조사하여 로고 등의 문양을 각인함으로써, IC칩의 심미감을 개선하고, IC칩을 다양한 형태의 광고 및 표현의 방법으로 활용할 수 있는 레이저 기술을 이용한 IC카드용 IC칩의 표면가공방법 및 이의 방법으로 표면가공된 IC카드용 IC칩에 관한 것이다. 본 발명에 따른 레이저 기술을 이용한 IC카드용 IC칩의 표면가공방법 및 이의 방법은 IC칩(10)의 베이스 기판(11)에 구리 도금층(12), 금속 도금층(13), 팔라듐 도금층(14)을 순서대로 형성하는 단계(S110)와, IC칩(10)...
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creator | JOO, EUN JUNG LEE, DA HYE KANG SUK MIN KANG HYO JONG |
description | 본 발명은 IC카드용 IC칩의 표면에 레이저를 조사하여 로고 등의 문양을 각인함으로써, IC칩의 심미감을 개선하고, IC칩을 다양한 형태의 광고 및 표현의 방법으로 활용할 수 있는 레이저 기술을 이용한 IC카드용 IC칩의 표면가공방법 및 이의 방법으로 표면가공된 IC카드용 IC칩에 관한 것이다. 본 발명에 따른 레이저 기술을 이용한 IC카드용 IC칩의 표면가공방법 및 이의 방법은 IC칩(10)의 베이스 기판(11)에 구리 도금층(12), 금속 도금층(13), 팔라듐 도금층(14)을 순서대로 형성하는 단계(S110)와, IC칩(10)의 표면에 설정된 문양(20)을 나타낼 수 있도록, 문양(20)의 범위 내에서 금속 도금층(12)으로 일직선 형태의 레이저빔을 일정 간격으로 조사하는 단계(S120)를 포함하는 것을 특징으로 한다. |
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subjects | CALCULATING CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL COMPUTING COUNTING DECORATIVE ARTS DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL HANDLING RECORD CARRIERS INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY MOSAICS PAPERHANGING PERFORMING OPERATIONS PHYSICS PRESENTATION OF DATA PRODUCING DECORATIVE EFFECTS RECOGNITION OF DATA RECORD CARRIERS SPECIAL DESIGNS OR PICTURES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION TARSIA WORK TRANSPORTING |
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