gas supply apparatus with internal-pressure adjustment by use of bellows drive

The present invention relates to a gas pressurization supply device which generally supplies process gas to a chamber in semiconductor manufacturing equipment. Specifically, the present invention relates to an internal pressure control type gas pressurization supply device based on bellows-driven control, in which a target pressure vessel containing process gas is constructed in the form of bellows and installed inside a sealed reference pressure vessel in which internal pressure is maintained, and which contracts or expands the bellows depending on whether the internal pressure deviates from a reference value, thereby uniformly adjusting the internal pressure of the pressure vessel for supply of process gas. According to the present invention, the gas pressurization supply device can precisely control the internal pressure of the pressurization supply device supplying process gas to a chamber in semiconductor manufacturing equipment. Additionally, according to the present invention, the gas pressurization supply device can reduce the risk of process gas leakage since the target pressure vessel containing the process gas is installed inside the reference pressure vessel. Moreover, according to the present invention, the gas pressurization supply device can immediately detect a leakage of process gas through pressure changes in the reference pressure vessel, allowing for rapid response. 본 발명은 일반적으로 반도체 제조설비에서 공정가스를 챔버에 공급하는 가스 가압공급 장치에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 공정가스를 담는 대상 압력용기를 벨로우즈 형태로 구성하고 대상 압력용기를 내압이 유지되는 밀폐형의 기준 압력용기 내부에 설치하며 대상 압력용기의 내부 압력이 기준 값을 벗어나는지에 따라 구동모터에 의해 벨로우즈를 수축 또는 팽창시킴으로써 공정가스 공급을 위한 압력용기의 내부 압력이 일정하게 조절되도록 구성한 벨로우즈 구동제어 기반의 내압조절식 가스 가압공급 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따르면 반도체 제조설비에서 챔버에 공정가스를 공급하는 가압공급 장치의 내부 압력을 정확하게 조절할 수 있는 장점이 있다. 또한, 본 발명에 따르면 공정가스를 담고있는 대상 압력용기를 기준 압력용기 내부에 설치함으로써 공정가스의 누출 위험성을 낮출 수 있는 장점이 있다. 또한, 기준 압력용기의 압력 변화를 통해 공정가스 누출을 즉각적으로 검출할 수 있어 신속한 대처도 가능하다.